[发明专利]聚合物的制造方法、及聚合物

权利要求书

1.一种聚合物的制造方法，是制造含有来自包含因曝光而分解并产生酸的结构的单体(A)的重复单元、来自具有酸不稳定基团的单体(B)的重复单元、及来自具有酚性羟基的单体(C)的重复单元，且聚合物中所含的单体(A)的残存量为1.0质量％以下的聚合物的方法，包含下列步骤：

将含有单体(A)、单体(B)、及单体(C)的单体溶液供给到反应釜中，及

在所述反应釜内实施聚合反应；

所述反应釜内的单体溶液中的单体浓度为35质量％以上，且所述单体溶液的溶剂(S)包含选自下式(S-1)及下式(S-2)所示的溶剂中的至少1种；

式中，R¹为氢原子、羟基、或也可经取代的碳数1～8的烷基；R²～R⁴分别独立地为氢原子或也可经取代的碳数1～8的烷基；p为1～3的整数；q为0～2的整数；r为1～3的整数。

2.根据权利要求1所述的聚合物的制造方法，其中，单体(A)为下式(A-1)～(A-3)中任一个所示的单体；

式中，R^A分别独立地为氢原子或甲基；

Z¹为单键、亚苯基、-O-Z¹¹-、-C(＝O)-O-Z¹¹-或-C(＝O)-NH-Z¹¹-；Z¹¹为碳数1～6的烷二基、碳数2～6的烯二基或亚苯基，且也可以含有羰基、酯键、醚键或羟基；

Z²为单键或-Z²¹-C(＝O)-O-；Z²¹为也可以含有杂原子的碳数1～20的2价烃基；

Z³为单键、亚甲基、亚乙基、亚苯基、经氟化的亚苯基、-O-Z³¹-、-C(＝O)-O-Z³¹-或-C(＝O)-NH-Z³¹-；Z³¹为碳数1～6的烷二基、碳数2～6的烯二基或亚苯基，且也可以含有羰基、酯键、醚键或羟基；

R¹¹～R¹⁸分别独立地为也可以含有杂原子的碳数1～20的1价烃基；此外，R¹¹与R¹²也可以彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环，R¹³、R¹⁴及R¹⁵中的任2个以上也可以彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环，R¹⁶、R¹⁷及R¹⁸中的任2个以上也可以彼此键结并和它们所键结的硫原子一起形成环；

M^-为非亲核性反荷离子(counter ion)。

3.根据权利要求1或2所述的聚合物的制造方法，其中，单体(B)为下式(B-1)或(B-2)所示的单体；

式中，R^A分别独立地为氢原子或甲基；X^A分别独立地为酸不稳定基团；R²¹分别独立地为氢原子、或也可以含有醚键或羰基的碳数1～6的烷基；L¹为单键、羰基氧基或酰胺基；L²为单键、或也可以含有醚键或羰基的碳数1～7的烷二基；a为符合a≦5+2c-b的整数；b为1～5的整数；c为0～2的整数。

4.根据权利要求1或2所述的聚合物的制造方法，其中，单体(C)为下式(C-1)所示的单体；

式中，R^A分别独立地为氢原子或甲基；R²²分别独立地为氢原子、或也可以含有醚键或羰基的碳数1～6的烷基；L³为单键、羰基氧基或酰胺基；L⁴为单键、或也可以含有醚键或羰基的碳数1～7的烷二基；d为符合d≦5+2f-e的整数；e为1～5的整数；f为0～2的整数。

5.根据权利要求1或2所述的聚合物的制造方法，其中，式(S-1)所示的溶剂为γ-丁内酯。