[发明专利]一种宽角度内反保偏膜元器件的设计及其制备在审

专利信息
申请号: 201911041523.X 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN110716251A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 黄文华;马新建;吴先云;廖洪平;陈秋华;张星;陈伟 申请(专利权)人: 福建福晶科技股份有限公司
主分类号: G02B5/04 分类号: G02B5/04;G02B27/28;G02B1/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 保偏膜 制备 等腰直角棱镜 光学元器件 光纤通信 射光偏振 反射率 全波段 位相差 增透膜 入射 元器件 简易
【说明书】:

发明涉及一种(1260‑1750)nm宽角度内反保偏膜元器件的设计及其制备。本发明的目的在于提供一种宽角度入射时,在光纤通信全波段(1260‑1750)nm范围内实现大于98%的内反射率,同时保持出入射光偏振位相差不变的光学元器件;它包括一个等腰直角棱镜(1)、出入射面增透膜(2)、内反保偏膜(3)。本发明具有简易的结构设计、易于制备、使用方便等优势。

技术领域

一种(1260-1750)nm宽角度内反保偏膜元器件的设计及其制备。

背景技术

根据麦克斯韦方程组理论可知,当光波通过介质界面时,其光学性能参数不可避免会产生突变,结果将导致光波场的重新建立。这点在反射光的相位变化上表现尤为突出。从菲涅耳公式推导可知,当光波由光疏介质入射到光密介质时,随入射角度变化,在布儒斯特角时,P偏振分量会有一次位相突变,而S偏振分量保持不变;而当光波由光密介质入射到光疏介质时,P偏振分量不仅会在布儒斯特角时,有一次突变,还会在全反射临界角时,有一次跃变;同时S偏振分量也会在全反射临界角有一次跃变。这样在需要改变光路时,难免需要对出入射光进行偏振态修正;特别是在需要宽角度宽波段应用时,需要增加更多的元器件,并由此带来不必要的光通量损耗。

保偏膜元器件是一种重要的光路设计元器件,可消除因斜入射时带来偏振位相差的影响,有很强的实用性和强烈的市场应用需求。已见报道的有:在单角度入射下,用单层介质膜实现单波长出入射偏振位相差不变的元器件。但宽波长宽角度的保偏膜元器件,特别是包括全反角的高反保偏膜,未见有详细介绍。

发明内容

本发明的目的在于提供一种宽波段宽角度内反保偏膜元器件,旨在能使该元器件应用于光纤通信全波段,并且在±8°宽角度范围内(包括光束全反角在内)都保持出入射光的偏振位相差不变;同时本发明能有效降低膜系设计难度,减少加工成本,易于制备;此外本发明还是一种膜层牢固度好、反射率较高的内反保偏棱镜。其工作波段为覆盖光纤通信全波段的(1260-1750)nm,反射率均大于98%,且S偏振和P偏振的位相差控制在±2°范围内。

本发明是这样实现的:一种(1260-1750)nm宽角度内反保偏膜元器件,由一个等腰直角棱镜(1)、出入射面增透膜(2)、内反保偏膜(3)组成;所述内反保偏膜由Ag、SiO2、Ta2O5三种不同膜料采用不同膜层厚度的5层薄膜组成,该5层薄膜的膜层从空气到等腰直角棱镜(1)依次为:第1层,SiO2膜层(11)、第2层,Ag膜层(12)、第3层,SiO2膜层(13)、第4层,Ta2O5膜层(12)、第5层,SiO2膜层(13)。

本发明的优点在于:

①选择合适的镀膜材料和镀制工艺;设计足够容差便于控制的膜层结构,选用与基片材料结合力强的SiO2膜层作为打底层,选择偏振分离较小的金属Ag膜来保证出入射光的位相差基本不变以及提供高反射率,最后用SiO2膜层作为Ag膜的保护层,来提高膜层的整体损伤阈值。

②本发明提供的一种(1260-1750)nm宽角度内反保偏膜元器件,相比单波段单角度内反保偏元器件,具体波度宽,角度大,敏感度小等优点,适用范围更广。

附图说明

图1 为本发明所提供一种(1260-1750)nm宽角度内反保偏膜元器件的结构示意图;

图2为本发明所提供一种(1260-1750)nm宽角度内反保偏膜元器件的保偏膜层结构示意图;

图3 为本发明保偏膜37°反射率光谱图;

图4 为本发明保偏膜37°位相差光谱图;

图5为本发明保偏膜45°反射率光谱图;

图6 为本发明保偏膜45°位相差光谱图;

图7 为本发明保偏膜53°反射率光谱图;

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