[发明专利]一种常温低泡水基清洗剂及其制备方法在审
| 申请号： | 201911044992.7 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN110699196A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 冯栋;冯斌;熊金平 | 申请（专利权）人： | 莱州市恒力达化工有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/26;C11D7/10;C11D7/12;C11D7/32;C11D11/00 |
| 代理公司： | 11421 北京天盾知识产权代理有限公司 | 代理人： | 卓邦荣;郭成 |
| 地址： | 261400 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 纯碱 起泡 二乙醇胺 防锈功能 航空煤油 机件表面 柠檬酸钠 去离子水 水基清洗 亚硝酸钠 组分混合 甘油 去污剂 消泡剂 质量份 喷涂 无油 酒精 清洗 替代 | ||
【权利要求书】：
1.一种常温低泡水基清洗机剂，其特征在于：包括以下质量份的组分混合而成：
二乙醇胺：10-15份；
亚硝酸钠：90-110份；
柠檬酸钠：90-110份；
纯碱：25-36份；
去污剂：24-35份；
酒精：15-22份；
HLD消泡剂：12-20份；
甘油：35-42份；
去离子水：600-700份。
2.根据权利要求1所述的一种常温低泡水基清洗机剂，其特征在于：一种常温低泡水基清洗机剂，其特征在于：包括以下质量份的组分混合而成：
二乙醇胺：13份；
亚硝酸钠：100份；
柠檬酸钠：100份；
纯碱：30份；
去污剂：30份；
酒精：20份；
HLD消泡剂：17份；
甘油：40份；
去离子水：650份。
3.根据权利要求1或2所述的一种常温低泡水基清洗机剂，其特征在于：所去污剂为丙二醇。
4.权利要求1-3任一所述的一种常温低泡水基清洗机剂的制备方法，其特征在于包含如下步骤：在反应釜中先加入三分之一的去离子水，升温至40±5℃，再依次加入其他组分，搅拌混合均匀，待充分溶解后，加入剩余的三分之二的去离子水，最后搅拌均匀即可。
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