[发明专利]一种常温低泡水基清洗剂及其制备方法

说明书

本发明公开一种常温低泡水基清洗机剂及其制备方法，包括以下质量份的组分混合而成：二乙醇胺：10‑15份；亚硝酸钠：90‑110份；柠檬酸钠：90‑110份；纯碱：25‑36份；去污剂：24‑35份；酒精：15‑22份；HLD消泡剂：12‑20份；甘油：35‑42份；去离子水：600‑700份。与现有技术相比，本发明原材料易购，成本低廉，制备简单，不起泡，清洗后机件表面无油基，可直接进行后续喷涂等表面处理，完全可以替代航空煤油并具有一定的防锈功能。

技术领域

本发明涉及工业清洗机,具体是一种常温低泡水基清洗机剂及其制备方法。

背景技术

为迅速清除金属机件表面的油污和杂质，提高机件表面的亮度，利于后续的装配和表面处理，目前一般采用汽油、航空煤油等有机溶剂进行清洗，不仅浪费资源，而且有机溶剂挥发后污染环境。

开号为CN103469229A的中国发明专利公开了一种水基金属表面清洗剂，它由以下组份按质量份组成：【表面活性剂】二壬基酚聚氧乙烯醚：54-56份；【无机碱】草酸钠：3-4份；【助洗剂】EDTA二钠：4-5份；【清洗剂】十六烷胺：0.5-1.0份；链状聚乙二醇：5-8份；乙二醇：10-15份；去离子水：余量；本发明的水基金属表面清洗剂不含磷，也不含APEO类表面活性剂，采用环保型的表面活性剂使得清洗剂整体而言绿色、环保无害，在低温、常温下具有较强的去污能力，但成本较高。

发明内容

本发明公开一种常温低泡水基清洗机剂，包括以下质量份的组分混合而成：

二乙醇胺：10-15份；

亚硝酸钠：90-110份；

柠檬酸钠：90-110份；

纯碱：25-36份；

去污剂：24-35份；

酒精：15-22份；

HLD消泡剂：12-20份；

甘油：35-42份；

去离子水：600-700份。

优选方案是：一种常温低泡水基清洗机剂，包括以下质量份的组分混合而成：

二乙醇胺：13份；

亚硝酸钠：100份；

柠檬酸钠：100份；

纯碱：30份；

去污剂：30份；

酒精：20份；

HLD消泡剂：17份；

甘油：40份；

去离子水：650份。

本发明还提供这一种常温低泡水基清洗机剂的制备方法，包含如下步骤：在反应釜中先加入三分之一的去离子水，升温至40±5℃，再依次加入其他组分，搅拌混合均匀，待充分溶解后，加入剩余的三分之二的去离子水，最后搅拌均匀即可。与现有技术相比，本发明原材料易购，成本低廉，制备简单，不起泡，清洗后机件表面无油基，可直接进行后续喷涂等表面处理，完全可以替代航空煤油并具有如下突出的特点:。

1，与航空煤油清洗相比能够增加三分之一的防锈效果；

2，合成以后，按照1:4的比例用去离子水已经稀释后使用成本大大的降低；3，经沉淀后可以重复利用；

4，此种清洗剂在环境温度为零下5度-零上40度,清洗效果无变化。

具体实施方式

下面通过具体的实施例对本发明进一步阐述。