[发明专利]一种掩膜版框架在审
申请号: | 201911047145.6 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN110592529A | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 姜正文;李文星 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 11659 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人: | 林波 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜版 矫正 边框 框架本体 形变 长度方向延伸 制备技术领域 变形现象 结构调节 像素位置 依次相连 内缩 外扩 首尾 报废 修正 节约 预防 保证 | ||
1.一种掩膜版框架,包括框架本体(1),所述框架本体(1)包括多根首尾依次相连的边框,其特征在于,所述边框上设置有弧形的矫正结构,所述矫正结构沿所在的所述边框的长度方向延伸设置,所述矫正结构被配置为能够为所述框架本体(1)提供预应力形变以矫正掩膜版形变。
2.根据权利要求1所述的掩膜版框架,其特征在于,所述矫正结构包括一对弯曲方向相反的弧形槽(2)和嵌设于所述弧形槽(2)内的预应力筋板,所述弧形槽(2)沿所在的所述边框的长度方向延伸。
3.根据权利要求2所述的掩膜版框架,其特征在于,所述弧形槽(2)的宽度的取值范围为5mm-10mm,所述弧形槽(2)的深度的取值范围为5mm-6mm。
4.根据权利要求2所述的掩膜版框架,其特征在于,所述弧形槽(2)设置于所述框架本体(1)背向所述掩膜版的一侧。
5.根据权利要求2-4任一项所述的掩膜版框架,其特征在于,所述预应力筋板和所述框架本体(1)均由因瓦合金制得。
6.根据权利要求1所述的掩膜版框架,其特征在于,所述矫正结构包括一对弯曲方向相反的弧形孔道(3)、设置于所述弧形孔道(3)内的矫正钢筋(4),以及与所述矫正钢筋(4)两端连接的调节件(5),所述弧形孔道(3)沿所在的所述边框的长度方向贯穿延伸,所述调节件(5)被配置为能够调节与所述矫正钢筋(4)之间的预应力大小。
7.根据权利要求6所述的掩膜版框架,其特征在于,所述矫正钢筋(4)的两端均设置有外螺纹,所述调节件(5)设置有内螺纹,所述调节件(5)与所述矫正钢筋(4)螺纹连接。
8.根据权利要求6所述的掩膜版框架,其特征在于,所述矫正结构还包括分别设置于所述弧形孔道(3)两端的调节槽,所述调节槽用于容纳对应的所述调节件(5)。
9.根据权利要求6-8任一项所述的掩膜版框架,其特征在于,所述矫正钢筋(4)和所述框架本体(1)均由因瓦合金制得。
10.根据权利要求1所述的掩膜版框架,其特征在于,所述矫正结构的数量为两个,分别设置于所述框架本体(1)相对两侧的所述边框上。
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