[发明专利]一种掩膜版框架

说明书

本发明属于OLED制备技术领域，公开了一种掩膜版框架。该掩膜版框架包括框架本体，框架本体包括多根首尾依次相连的边框，边框上设置有弧形的矫正结构，矫正结构沿所在的边框的长度方向延伸设置，矫正结构能够为框架本体提供预应力形变以矫正掩膜版形变，从而改善修正掩膜版上已经出现的内缩或外扩的变形现象，以提高像素位置精度，减少掩膜版报废数量，节约成本；还能够通过矫正结构调节预防掩膜版形变，保证产品质量。

技术领域

本发明涉及OLED制备技术领域，尤其涉及一种掩膜版框架。

背景技术

目前，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)的真空蒸镀工艺是利用精密掩膜版(Fine Metal Mask，简称FMM)框架模组作为模具，加热有机发光材料使其高温挥发后以材料分子状态透过掩膜版的开口蒸镀到基板上的相对位置，从而在基板的表面上形成特定图形的固态薄膜，实现屏幕的像素的正常发光。

一般的，掩膜版框架模组包括掩膜版框架和设置有开口的金属掩膜版，金属掩膜版的两端由夹爪夹持，然后焊接固定在掩膜版框架上。焊接结束后，由于焊接应力作用，金属掩膜版会发生内缩或外扩等变形，从而导致其上的像素图形出现PPA(像素位置精度，Pixel Position Accuracy)偏位现象；张网完成的掩膜版在张网和使用过程中也会出现开口位置偏差的问题，导致蒸镀位置出现偏差，出现PPA偏位现象，带来混色不良等问题，影响最终的显示效果。

因此，亟需提出一种掩膜版框架来解决上述的技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩膜版框架，能够改善掩膜版内缩和外扩的形变现象，从而提高掩膜版的像素位置精度，保证掩膜版的成像质量。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种掩膜版框架，包括框架本体，所述框架本体包括多根首尾依次相连的边框，所述边框上设置有弧形的矫正结构，所述矫正结构沿所在的所述边框的长度方向延伸设置，所述矫正结构被配置为能够为所述框架本体提供预应力形变以矫正掩膜版的形变。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述矫正结构包括一对弯曲方向相反的弧形槽和嵌设于所述弧形槽内的预应力筋板，所述弧形槽沿所在的所述边框的长度方向延伸。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述弧形槽的宽度的取值范围为5mm-10mm，所述弧形槽的深度的取值范围为5mm-6mm。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述弧形槽设置于所述框架本体背向所述掩膜版的一侧。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述预应力筋板和所述框架本体均由因瓦合金制得。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述矫正结构包括一对弯曲方向相反的弧形孔道、设置于所述弧形孔道内的矫正钢筋，以及与所述矫正钢筋两端连接的调节件，所述弧形孔道沿所在的所述边框的长度方向贯穿延伸，所述调节件被配置为能够调节与所述矫正钢筋之间的预应力大小。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述矫正钢筋的两端均设置有外螺纹，所述调节件设置有内螺纹，所述调节件与所述矫正钢筋螺纹连接。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述矫正结构还包括分别设置于所述弧形孔道两端的调节槽，所述调节槽用于容纳对应的所述调节件。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述矫正钢筋和所述框架本体均由因瓦合金制得。

作为上述掩膜版框架的优选技术方案，所述矫正结构的数量为两个，分别设置于所述框架本体相对两侧的所述边框上。

与现有技术相比，本发明的优点及有益效果在于：