[发明专利]柔性显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供一柔性基板，所述柔性基板至少包括柔性弯折区；

在所述柔性基板上形成无机膜层；

对所述无机膜层上和所述柔性弯折区对应区域的进行一次刻蚀，以形成具有坡度的深孔；

向所述深孔中填充有机材料以形成有机膜层；

在所述有机膜层和所述无机膜层上形成金属走线层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述对所述无机膜层上和所述柔性弯折区对应区域的进行一次刻蚀，以形成具有坡度的深孔包括：

在所述无机膜层上涂覆光刻胶层；

图案化所述光刻胶层，以至少暴露和所述有机膜层对应的所述柔性弯折区；

对所述柔性弯折区进行一次刻蚀以形成具有坡度的所述深孔。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述光刻胶层的厚度大于或等于2.5um。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述对所述柔性弯折区进行一次刻蚀的时间范围为450s-600s。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述对所述柔性弯折区刻蚀采用干法刻蚀。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述图案化所述光刻胶层，以至少暴露和所述有机膜层对应的所述柔性弯折区包括：

采用预设图案的光刻模板对准所述光刻胶层；

通过曝光将所述预设图案转移到所述光刻胶层上；

通过显影将所述预设图案复制到所述光刻胶层上，以至少暴露和所述有机膜层对应的所述柔性弯折区。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述柔性基板上形成无机膜层包括：

在所述柔性基板上依次沉积并图案化形成阻隔层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、栅极层及第二栅极绝缘层。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法进一步包括：

在所述金属走线层依次形成平坦层、阳极层、像素层及支撑层，以制成所述柔性显示面板。

9.根据权利要求1～8中任一所述的制备方法，其特征在于，所述有机膜层上的所述金属走线层包括镂空状的金属走线设计。

10.一种柔性显示面板，其特征在于，所述柔性显示面板包括柔性基板，所述柔性基板至少包括柔性弯折区、依次设置在所述柔性基板上的无机膜层、有机膜层及设置在所述无机膜层和所述有机膜层上的金属走线层；

其中，所述无机膜层对应所述柔性弯折区处具有深孔，所述有机膜层至少填充于所述深孔中，所述有机膜层、所述深孔及所述无机膜层的制备方法如权利要求1-9任一所述的制备方法。