[发明专利]一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法

说明书

本发明公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。显示面板包括阵列基板、发光层及阴极层。阵列基板包括从下至上依次层叠设置的衬底基板、薄膜晶体管层、彩膜层、平坦层、阳极层、光反射层以及像素定义层；所述彩膜层包括间隔分布的子彩膜单元；在对应相邻两所述子彩膜单元之间的间隔位置设置有第一凹槽；所述光反射层设于所述第一凹槽内，用于阻挡并反射所述平坦层内横向传播的光线，使得反射的光线穿过所述子彩膜单元。本发明通过制作光反射层在其反射横向传播的光线时将传播方向修正为朝向所述子彩膜单元方向，使得反射的光线穿过子彩膜单元，可改善漏光、混色和发光效率低等问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。

背景技术

随着背板解析度的不断提高，像素数量及子像素间间距不断减小，对于底发射型白光有机发光二极管(COA)发光时，光线需要通过平坦层和R/G/B彩膜，由于底发光白光有机发光二极管的平坦层一般是高穿透有机材料，光线传播的多向性，往往会导致不需要发光的像素由于相邻的像素发光而发光，首先表现为漏光，其次由于横向光路传播，导致发光效率降低和混色问题。

具体如图1所示，为现有的一种底发射型白光有机发光二极管阵列基板90的结构示意图，包括从下至上依次层叠设置的基板91、薄膜晶体管层92、彩膜层93、平坦层94、阳极层95以及像素定义层96。其中彩膜层93包括间隔分布的子彩膜单元931，阳极层95对应所述子彩膜单元931阵列的位置设于平坦层94上；像素定义层96设于平坦层94上并定义出像素区域961。光线(图1中用箭头表示)从像素区域961发出，穿过阳极层95并在平坦层94内向下传播，其中不可避免的存在横向光线，从而导致漏光、混色和发光效率低。

因此，确有必要来开发一种新型的阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法，来克服现有技术中的缺陷。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法，通过设置光反射层阻挡并反射横向传播的光线，可改善漏光、混色和发光效率低等问题。

为了实现上述目的，本发明提供一种阵列基板，包括从下至上依次层叠设置的衬底基板、薄膜晶体管层、彩膜层、平坦层、阳极层、光反射层以及像素定义层；具体地讲，所述薄膜晶体管层设于所述衬底基板上；所述彩膜层设于所述薄膜晶体管层上，所述彩膜层包括间隔分布的子彩膜单元；所述平坦层设于所述彩膜层上，且在对应相邻两所述子彩膜单元之间的间隔位置设置有第一凹槽；所述阳极层对应所述子彩膜单元阵列的位置设于所述平坦层上；所述光反射层设于所述第一凹槽内，用于阻挡并反射所述平坦层内横向传播的光线，使得反射的光线穿过所述子彩膜单元；所述像素定义层对应所述第一凹槽的位置设于所述光反射层及所述平坦层上，并定义出像素区域。

进一步地，所述第一凹槽的横截面呈倒梯形。

进一步地，所述光反射层包括金属层，设于所述第一凹槽内。

进一步地，所述金属层的材质包括Al、Mo、Cu中的一种或几种的合金。

进一步地，所述光反射层还包括氧化铟锡层，所述氧化铟锡层设于所述第一凹槽的侧壁和底面上形成第二凹槽，所述金属层设于所述第二凹槽的侧壁和底面上形成第三凹槽，所述像素定义层覆盖所述金属层并填充所述第三凹槽。

本发明还提供一种阵列基板的制作方法，包括步骤：

制作衬底基板；

制作薄膜晶体管层，在所述衬底基板上制作薄膜晶体管层；

制作彩膜层，在所述薄膜晶体管层上制作彩膜层，所述彩膜层包括间隔分布的子彩膜单元；

制作平坦层，在所述彩膜层上制作平坦层，所述平坦层在对应相邻两所述子彩膜单元之间的间隔位置设置有第一凹槽；

制作阳极层，在对应所述子彩膜单元阵列的位置的所述平坦层上制作阳极层；