[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

说明书

本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，解决同时刻蚀平坦层形成暴露输出电极的过孔和暴露补偿阴极图形的过孔时，输出电极容易被过刻蚀，导致后续与阳极搭接不良的问题。该制作方法包括：对光刻胶层曝光，形成的光刻胶半保留区域在基底上的正投影位于输出电极在基底上的正投影内部，光刻胶完全去除区域在基底上的正投影位于补偿阴极图形在基底上的正投影内部；对位于光刻胶半保留区域的光刻胶，与光刻胶半保留区域对应的平坦层，以及与光刻胶完全去除区域对应的平坦层刻蚀，同时形成将输出电极背向基底的表面暴露的第一过孔和将补偿阴极图形背向基底的表面暴露的第二过孔。本发明提供的制作方法用于制作显示基板。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

在制作大尺寸的有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)显示基板时，一般会在显示基板中设置补偿阴极图形，并将该补偿阴极图形与OLED显示基板中的阴极耦接，以降低所述阴极的电阻。显示基板中还包括用于输出驱动信号的晶体管，而该晶体管输出电极的正下方一般设置有遮光层和导电功能图形，使得在垂直于显示基板的基底的方向上，所述输出电极背向基底的表面的高度高于所述补偿阴极图形背向基底的表面的高度。

上述OLED显示基板还包括覆盖在所述输出电极和所述补偿阴极图形上的平坦层，而由于显示基板的结构需要，要在所述平坦层上制作两个过孔，其中一个过孔用于将所述输出电极暴露，另一个过孔用于将所述补偿阴极图形暴露，以便于后续所述输出电极与显示基板中阳极图形的连接，以及所述补偿阴极图形与所述阴极的耦接。

但是由于所述输出电极背向基底的表面的高度高于所述补偿阴极图形背向基底的表面的高度，使得形成在所述输出电极正上方的平坦层的厚度比形成在所述补偿阴极图形正上方的平坦层的厚度薄，这样在相同的刻蚀条件下，同时刻蚀形成所述两个过孔时，由于刻蚀速率和时间相同，使得所述输出电极容易被过刻蚀，这样就会损伤所述输出电极，造成后续与阳极的搭接不良，影响产品良率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于解决在相同的刻蚀条件下，同时刻蚀平坦层形成用于暴露所述输出电极的过孔和暴露所述补偿阴极图形的过孔时，所述输出电极容易被过刻蚀，导致后续与阳极的搭接不良，影响产品良率的问题。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

本发明的第一方面提供一种显示基板的制作方法，包括：

在基底上制作薄膜晶体管阵列层，所述薄膜晶体管阵列层包括用于输出驱动信号的第一晶体管，以及补偿阴极图形；

在所述薄膜晶体管背向所述基底的一侧依次形成层叠设置的平坦层和光刻胶层；

通过半色调掩膜板对所述光刻胶层进行曝光，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶半保留区域和光刻胶完全去除区域，所述光刻胶半保留区域在所述基底上的正投影位于所述第一晶体管的输出电极在所述基底上的正投影的内部，所述光刻胶完全去除区域在所述基底上的正投影位于所述补偿阴极图形在所述基底上的正投影内部，所述光刻胶完全保留区域对应所述光刻胶层中，除所述光刻胶半保留区域和所述光刻胶完全去除区域之外的其它区域；

同时对位于所述光刻胶半保留区域的第一部分光刻胶，与所述光刻胶半保留区域对应的第一部分平坦层，以及与所述光刻胶完全去除区域对应的第二部分平坦层进行刻蚀，在相同的刻蚀时间内，形成能够将所述输出电极背向所述基底的表面至少部分暴露的第一过孔，以及能够将所述补偿阴极图形背向所述基底的表面至少部分暴露的第二过孔。

可选的，所述在所述薄膜晶体管背向所述基底的一侧依次形成层叠设置的平坦层和光刻胶层的步骤具体包括：

采用第一平坦材料形成所述平坦层；