[发明专利]一种发射药表面残留硫脱除方法

权利要求书

1.一种发射药表面残留硫脱除方法，其特征是：具体包括以下步骤：

1)脱除水溶性硫化物，称取100g表面残留硫的发射药样品，量取500ml水，然后将称取的发射药样品和量取的水加入带有搅拌装置的三口烧瓶内，并将三口烧瓶放入超声波清洗机中进行超声清洗，设置超声波清洗机的超声清洗温度为50-100℃，超声清洗的时间设置为5-60min，得到脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药样品；

2)脱除单质硫，将步骤1)中得到的脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药样品和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内，并进行搅拌反应，并控制搅拌反应的温度和时间，然后将搅拌反应完成后的发射药样品洗涤过滤，脱除发射药样品表面残余的硫单质，然后将脱除表面残余的硫单质的发射药样品置于60℃水浴烘箱内干燥2d，得到脱除表面残留硫的发射药样品；其中，所述的反应试剂溶液为过氧化氢溶液、浓度为0.1～5wt％的氢氧化钠溶液和浓度为0.1～15wt％的稀硝酸溶液中的一种；

3)硫元素含量检测，采用元素分析仪分别对未脱硫发射药样品、经过步骤1)处理后的发射药样品和经过步骤2)处理后的发射药样品进行硫元素含量分析。

2.根据权利要求1所述的一种发射药表面残留硫脱除方法，其特征是：步骤2)中进行搅拌反应的温度为室温-80℃，搅拌反应的时间为5-360min。