[发明专利]一种发射药表面残留硫脱除方法有效

专利信息
申请号: 201911058680.1 申请日: 2019-11-01
公开(公告)号: CN110790618B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 肖忠良;李世影;丁亚军;梁昊;赵先正;陶忠安 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C06B21/00 分类号: C06B21/00
代理公司: 重庆市信立达专利代理事务所(普通合伙) 50230 代理人: 陈炳萍
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 发射 表面 残留 脱除 方法
【说明书】:

本发明公开了一种发射药表面残留硫脱除方法,涉及发射药技术领域,其技术方案要点:具体包括以下步骤:步骤1):采用超声清洗机对某表面含硫发射药进行超声清洗,脱除发射药表面残留的水溶性硫化物;步骤2):脱除发射药表面残留的单质硫,将步骤1)中脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内进行搅拌反应,并控制搅拌反应的温度和时间;步骤3):对经过步骤1)和步骤2)处理的发射药进行硫元素含量检测。本技术方案利用简单的物理化学方法,能够实现发射药表面残留硫的脱除,从而大幅度降低发射药中硫元素的含量,有效地抑制发射药在射击过程中产生的刺激性气味。

技术领域

本发明涉及发射药技术领域,更具体地说,它涉及一种发射药表面残留硫脱除方法。

背景技术

发射药是实现身管武器发射不可或缺的能源物质,其组分是决定发射药性能的重要因素之一。身管武器发射过程,除了完成武器的基本功能以外,同时对武器的使用环境也将产生诸多负面影响。这些影响是武器内弹道过程物理化学作用结果,具体表现在发射烟焰、膛内残渣、炮口压力波、发射噪声与振动和有毒有害气体等有害现象。

实现能量释放由慢到快的高渐增性,成为决定武器性能的核心与关键技术,也是国际军械领域前沿发展方向。为了获得发射药能量释放高 渐增性,本发明人已申请国防专利,所制备的发射药具有较高的能量释放渐增性。然而,在制备的过程中,该类发射药表面残余硫元素,硫元素的存在使得发射药在燃烧过程中产生了二氧化硫等刺激性的有毒有害气体,易造成大气污染。同时,在射击过程中,二氧化硫等刺激性气味将引起作战人员严重的生理和心理应激反应,从而导致健康水平和作战效能的降低。发射药中硫元素的存在无疑加剧了对作战环境产生的负面影响,抑制了该类发射药的发展。

目前,现有技术中,尚无表面残留硫火药中硫的脱除方法,因此,在发射药领域对该类表面含硫的高渐增性发射药进行脱硫处理,进一步提升发射药性能,为作战人员提供优良的作战环境是迫切需要解决的重要问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种发射药表面残留硫脱除方法,利用了物理化学方法,能够对发射药表面的残留硫进行脱除,从而大幅度降低发射药中硫元素的含量,有效地抑制发射药在射击过程中的刺激性气味。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:一种发射药表面残留硫脱除方法,具体包括以下步骤:

1)脱除水溶性硫化物,称取100g表面残留硫的某发射药样品,量取500ml水,然后将称取的某发射药样品和量取的水加入带有搅拌装置的三口烧瓶内,并将三口烧瓶放入超声波清洗机中进行超声清洗,设置超声波清洗机的超声清洗温度为50-100℃,超声清洗的时间设置为5-60min,得到脱除表面残留的水溶性硫化物的某发射药样品;

2)脱除单质硫,将步骤1)中得到的脱除表面残留的水溶性硫化物的某发射药样品和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内,进行搅拌反应,并控制搅拌反应的温度和时间,然后将搅拌反应完成后的某发射药样品洗涤过滤,脱除某发射药样品表面残余的硫单质,然后将脱除表面残余的硫单质的某发射药样品置于60℃水浴烘箱内干燥2d(2天),得到脱除表面残留硫的某发射药样品;

3)硫元素含量检测,采用元素分析仪分别对未脱硫某发射药样品、经过步骤1)处理后的某发射药样品和经过步骤2)处理后的某发射药样品进行硫元素含量分析。

本发明进一步设置为:步骤2)中进行搅拌反应的温度为室温 -80℃,搅拌反应的时间为5-360min。

本发明进一步设置为:步骤2)中所述的反应试剂溶液为过氧化氢溶液、浓度为0.1~5wt%的氢氧化钠溶液和浓度为0.1~15wt%的稀硝酸溶液中的一种。

本发明具有以下有益效果:利用了物理化学方法,能够对发射药表面的残留硫进行脱除,从而大幅度降低发射药中硫元素的含量,有效地抑制发射药在射击过程中的刺激性气味。

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