[发明专利]一种水浴锅水位控制系统和方法

权利要求书

1.一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，包括

至少一个水浴锅：用于对试验样品进行水浴实验；

平衡罐：所述平衡罐内设有上限水位开关和下限水位开关，所述平衡罐用于实时为所述水浴锅补水；

分流器：通过导管连接所述水浴锅和所述平衡罐，使所述水浴锅中的水和所述平衡罐中的水在大气压的作用下形成水平衡系统；

控制电路，所述控制电路电连接所述上限水位开关和所述下限水位开关，用于实时监测所述平衡罐的水位，在水位过低时实时为所述水平衡系统补水。

2.如权利要求1所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，还包括制水机、水塔、水泵和电磁阀，所述水塔内设有水塔水位传感器，所述制水机通过导管连接所述水塔，所述水塔通过导管连接所述水泵，所述水泵通过导管连接所述电磁阀，所述电磁阀通过导管连接所述分流器，所述电磁阀和所述水泵连接所述控制电路，所述控制电路控制所述电磁阀打开或截止，所述控制电路控制所述水泵运转或停止。

3.如权利要求1所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，所述水浴锅的水面面积为所述平衡罐的水平面积的N倍。

4.如权利要求3所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，所述水浴锅的水面面积具体为所述平衡罐的水平面积的8倍。

5.如权利要求1所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，所述上限水位开关和所述下限水位开关的水平高度差为Nmm。

6.如权利要求1所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，所述上限水位开关位于所述下限水位开关的上方，所述下限水位开关的水平高度为所述水浴锅的最低水位。

7.如权利要求1所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，所述水浴锅的数量具体为3个。

8.如权利要求1所述的一种水浴锅水位控制系统，其特征在于，所述水浴锅底部设有放水阀，所述放水阀通过导管连接所述分流器。

9.一种水浴锅水位控制方法，其特征在于，所述控制方法通过权利要求1至8任意一项所述的控制系统实现。

10.如权利要求9所述的一种水浴锅水位控制方法，其特征在于，所述控制方法包括：

当所述水浴锅中的水位因蒸发而降低时，在大气压作用下通过所述平衡罐为所述水浴锅补水；

当所述平衡罐中的水位低于所述下限水位开关的位置时，启动所述水泵为所述平衡罐和所述水浴锅补水；

当所述平衡罐中的水位达到所述上限水位开关的位置时，关闭所述水泵。