[发明专利]掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置在审
| 申请号： | 201911069137.1 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN111534786A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 安鼎铉;文在皙;李丞赈 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;刘灿强 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 框架 组件 以及 采用 沉积 装置 | ||
1.一种掩膜框架组件，其中，包括框架和掩膜，所述掩膜结合于所述框架并具备有用于基板上的沉积的图案区域，
所述框架包括层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构体。
2.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述强磁性层包含因瓦合金材料，所述弱磁性层包含不锈钢材料。
3.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述掩膜结合在所述弱磁性层。
4.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，
所述掩膜具有相对强于所述弱磁性层的磁性。
5.如权利要求1所述的掩膜框架组件，其中，还包括：
长边棒，结合于所述框架而将所述掩膜的图案区域划分为单位单元格图案。
6.一种沉积装置，其中，包括：
掩膜框架组件，包括框架和掩膜，所述掩膜结合于所述框架并具备有用于基板上的沉积的图案区域；
磁体，向所述掩膜框架组件施加磁力而使所述掩膜紧贴在所述基板；
所述框架包括层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构体。
7.如权利要求6所述的沉积装置，其中，
所述强磁性层包含因瓦合金材料，所述弱磁性层包含不锈钢材料。
8.如权利要求6所述的沉积装置，其中，
所述磁体布置为中间隔着所述基板而与所述掩膜框架组件对向，所述掩膜结合在所述框架的所述弱磁性层。
9.如权利要求6所述的沉积装置，其中，
所述掩膜具有相对强于所述弱磁性层的磁性。
10.如权利要求6所述的沉积装置，其中，
所述掩膜框架组件还包括：长边棒，结合在所述框架，将所述掩膜的图案区域划分为单位单元格图案。
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