[发明专利]掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置

说明书

本发明的一实施例公开一种掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置，所述掩膜框架组件包括：掩膜，配备有用于沉积的图案区域；以及框架，以层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构来支撑掩膜。

技术领域

本发明涉及一种使用于沉积作业的掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置。

背景技术

一般，有机发光显示装置利用从阳极和阴极注入的空穴和电子在发光层中复合而发光的原理可以呈现颜色，其中，由在作为阳极的像素电极和作为阴极的对向电极之间插入有发光层的结构构成像素。

各个所述像素可以成为例如红色像素、绿色像素以及蓝色像素中的任意一个的子像素(sub pixel)，并且可以通过这3种颜色的子像素的颜色组合显示出期望的颜色。即，各个子像素都具有在两个电极之间夹设有发出红色、绿色以及蓝色中的任意一种颜色的光的发光层的结构，并且通过这3种颜色的光的恰当的组合显示出一个单位像素的颜色。

如上所述的有机发光显示装置的电极和发光层等可以通过沉积来形成。即，将具有与期望形成的薄膜层的图案相同的图案孔的掩膜排列在基板上，并通过该掩膜的图案孔而将薄膜的原材料沉积到基板，从而形成期望的图案的薄膜。

所述掩膜与支撑其端部的框架以及将所述图案孔划分为多个单位单元格图案的长边棒一起大多以掩膜框架组件的形态使用，并在进行沉积作业时以磁体的磁力将掩膜紧贴到基板。即，使磁体朝向与掩膜接触的基板表面的相反侧的表面靠近，从而使磁力发挥作用为使掩膜紧贴到基板，然后进行沉积。

并且，如果针对一个基板的沉积结束，则移开磁体并将基板更换为另一个，然后再将掩膜框架组件紧贴到更换后的新的基板，进而进行下一个沉积作业。

发明内容

然而，如果作用在所述掩膜框架组件的磁力过强，则为了更换基板而移开磁体时有可能发生如下问题：掩膜框架组件由于该磁力而一起被牵引，从而位置会一点一点地偏离。即，掩膜框架组件需要持续维持在相同的位置，以便更换基板也能够始终沉积在相同的位置，但如果像这样位置发生偏离，则无法对下一个基板执行准确的沉积。

但如果因此而使用磁力较弱的磁体，则掩膜和基板之间有可能会翘起而无法令人满意地紧贴，并且容易发生在该翘起部位发生严重的过沉积的所谓冰柱不良，或者连原本意图的沉积区域的外廓也发生沉积的所谓阴影(Shadow)不良。即，如果作用在掩膜框架组件的磁力过大，则会在更换基板时发生位置变动而发生沉积不良，磁力过小则会由于基板和掩膜之间的紧贴力变弱而发生沉积不良。

因此，本发明的实施例提供一种改善成不降低如上所述的掩膜和基板之间的紧贴力的情况下也可以抑制更换基板时的掩膜框架组件的位置变动的掩膜框架组件以及采用该掩膜框架组件的沉积装置。

本发明的实施例提供一种掩膜框架组件，其中，包括框架和掩膜，所述掩膜结合于所述框架并具备有用于基板上的沉积的图案区域，所述框架包括层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构体。

所述强磁性层可以包含因瓦合金(INVAR)材料，所述弱磁性层包含不锈钢材料。

所述掩膜可以结合在所述弱磁性层。

所述掩膜可以具有相对强于所述弱磁性层的磁性。

所述掩膜框架组件，其中，还可以包括：长边棒，结合于所述框架而将所述掩膜的图案区域划分为单位单元格图案。

并且，本发明的实施例提供一种沉积装置，其中，包括：掩膜框架组件，包括框架和掩膜，所述掩膜结合于所述框架并具备有用于基板上的沉积的图案区域；磁体，向所述掩膜框架组件施加磁力而使所述掩膜紧贴在所述基板；所述框架包括层叠有相对强磁性层和相对弱磁性层的包覆结构体。

所述强磁性层可以包含因瓦合金(INVAR)材料，所述弱磁性层包含不锈钢材料。