[发明专利]一种同步驱动PCVD沉积炉装置

说明书

本申请涉及一种同步驱动PCVD沉积炉装置，包括炉子、升降组件、开合组件和框架，所述升降组件设置在所述框架上，所述升降组件连接并驱动所述开合组件上下移动，所述开合组件包括第一安装板、固定在所述第一安装板上的第一电机和第一丝杠，所述开合组件还包括直角减速机和与所述直角减速机连接的传动轴，所述第一丝杠连接在所述传动轴上，所述第一电机输出端连接并驱动所述直角减速机进而带动所述传动轴转动，所述第一丝杠的第一丝杠轴在所述传动轴带动下向上或向下运动。本发明结构设计简单，加工和装配难度低，用机械同步代替电气同步，提高了传动的稳定性。

技术领域

本申请属于光纤制造技术领域，尤其是涉及一种同步驱动PCVD沉积炉装置。

背景技术

PCVD技术指将等离子体技术引人化学气相沉积，形成覆盖层的方法称为等离子体化学气相沉积，简称PCVD。PCVD技术利用低温等离子体可以促进化学反应，可使在比热化学反应低的温度下沉积薄膜。近年来，在半导体、电子产品、光学仪器等工业领域中，等离子体化学气相沉积技术的实用性已经引起重视，它的应用正在迅速发展。

在光纤PCVD工艺中，沉积炉子需要完成升降开合等动作。现有的炉子驱动装置主要以交流异步电机和涡轮升降机组合的方式完成升降动作，用电动推杆或者气缸实现炉子开合动作。上述炉子驱动装置在PCVD工艺中传动效率较低，又由于同步性问题可能造成机构及炉内材料的损坏，从而导致整个沉积工艺产出的芯棒有各种缺陷问题。现有的技术沉积炉装置运行动作基本一样，即完成上下和开合四个动作。其中上下移动所用装置多为涡轮丝杠升降机配合交流异步电机使用，辅助需导轨定位，结构复杂且传动效率低。驱动开合的装置多为气缸或电动推杆带动连杆来完成，由于本身同步性较差，容易损坏机构或者损坏炉子内部保温材料，从而导致整个沉积工艺产出的芯棒有各种缺陷问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：为解决现有技术中PCVD沉积炉装置沉积同步性差，动作效率低的不足，从而提供一种同步驱动PCVD沉积炉装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种同步驱动PCVD沉积炉装置，包括炉子、升降组件、开合组件和框架，所述升降组件设置在所述框架上，所述升降组件连接并驱动所述开合组件上下移动，所述开合组件包括第一安装板、固定在所述第一安装板上的第一电机和第一丝杠，所述开合组件还包括直角减速机和与所述直角减速机连接的传动轴，所述第一丝杠连接在所述传动轴上，所述第一电机输出端连接并驱动所述直角减速机进而带动所述传动轴转动，所述第一丝杠的第一丝杠轴在所述传动轴带动下向上或向下运动，所述炉子具有固定部和转动连接在所述固定部上的一对开合部，所述固定部与所述第一丝杠轴固定，一对所述开合部分别通过销轴组件与所述第一安装板连接，所述第一丝杠轴带动固定部向上或向下运动时，一对所述开合部彼此分离打开或聚拢闭合。

在其中一个实施例中，所述升降组件包括第二安装板、第二电机、第二丝杠和传动带轮，所述第二安装板固定在所述框架上，所述第二丝杠固定在所述第二安装板上，所述传动带轮两端分别连接所述第二电机输出端和所述第二丝杠主动端，所述第二丝杠从动端与所述第一安装板固定，所述第二电机通过所述传动带轮驱动所述第二丝杠的从动端向上或向下运动。

在其中一个实施例中，所述第二电机为伺服电机，所述第二丝杠为梯形丝杠。

在其中一个实施例中，所述传动带轮包括传动带和分别设置在所述传动带两端的一对传动轮，所述第二丝杠包括第二丝杠轴和固定在所述第二丝杠轴顶端的丝杠螺母，一对所述传动轮分别与所述第二电机输出端和所述丝杠螺母连接，所述第二电机通过所述传动带轮带动所述丝杠螺母转动，转动的丝杠螺母带动所述第二丝杠轴向上或向下运动。

在其中一个实施例中，所述第二电机为刹车电机。

在其中一个实施例中，所述第二电机连接有变频器，所述变频器控制所述第二电机转速使所述开合组件向下运动时先快后慢、向上运动时先慢后快。