[发明专利]加热装置及化学气相沉积系统

说明书

本发明提供一种包括承载台、多个载盘、多个第一加热器以及至少一第二加热器的加热装置被提出。承载台具有公转轴。多个载盘设置于承载台上。承载台带动这些载盘以公转轴为中心而公转。多个第一加热器设置于承载台下，并定义出第一加热区。任两相邻的第一加热器之间具有第一间距。这些第一加热器在公转轴的径向上分别具有第一宽度至少一第二加热器设置于承载台下，并定义出第二加热区。第二加热器在公转轴的径向上具有第二宽度，且第一宽度等于第二宽度。第二加热区与第一加热区之间具有最小间距，且最小间距不等于第一间距。一种采用加热装置的化学气相沉积系统也被提出。

技术领域

本发明涉及一种成膜设备，尤其涉及一种加热装置及化学气相沉积系统。

背景技术

在发光二极管材料的操作性能以及可靠性不断地提升下，其应用的领域也逐渐多元化，例如照明装置、显示器、背光模组等。为了满足各种使用需求下的性能规格，不同样式或材料组成的发光二极管元件不断地挑战相关厂商的设计与量产能力。举例来说，应用于显示器的微型发光二极管，其磊晶层的膜厚均匀性需要达到一定的水准才能满足所需的显示品质(例如演色性或显示面的亮度均匀性)要求。

在形成微型发光二极管元件的磊晶薄膜的制造过程中，化学气相沉积(chemicalvapor deposition，CVD)技术是较常使用的技术手段之一。为了取得均匀性较佳的磊晶薄膜，化学气相沉积设备的腔室内大都置入可旋转的承载台(susceptor)与多个载盘(satellite disc)。载盘用以承载磊晶基板并相对于自转轴转动而形成自转系统，承载台用以带动这些载盘相对于公转轴转动而形成公转系统。当磊晶基板由加热器获得热能时，载盘的公转与自转有助于提升磊晶基板的温度均匀性。

然而，伴随着磊晶基板尺寸的增加以及发光二极管元件尺寸的缩减，上述的承载台与载盘的配置关系已无法满足磊晶基板于成膜时所需的温度均匀性。

发明内容

本发明提供一种加热装置，可使磊晶基板的温度均匀性较佳。

本发明提供一种化学气相沉积系统，具有较佳的成膜均匀性。

本发明的加热装置，包括承载台、多个载盘、多个第一加热器以及至少一第二加热器。承载台具有公转轴。多个载盘设置于承载台上。承载台带动这些载盘以公转轴为中心而公转。多个第一加热器设置于承载台下，并定义出第一加热区。任两相邻的第一加热器之间具有第一间距。这些第一加热器在公转轴的径向上分别具有第一宽度。至少一第二加热器设置于承载台下，并定义出第二加热区。第二加热器在公转轴的径向上具有第二宽度，且第一宽度等于第二宽度。第二加热区与第一加热区之间具有最小间距，且最小间距不等于第一间距。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的第一加热区在公转轴的径向上具有径向宽度。载盘具有载盘直径，而径向宽度与载盘直径的比值大于0.5且小于1。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的第二加热区包括多个第二加热器，任两相邻的第二加热器之间具有第二间距，且第二间距不等于第一间距。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的多个第一加热器于承载台上的垂直投影面积与第一加热区于承载台上的垂直投影面积的比值不等于多个第二加热器于承载台上的垂直投影面积与第二加热区于承载台上的垂直投影面积的比值。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的多个第一加热器具有第一温度，至少一第二加热器具有第二温度，且第一温度不等于第二温度。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的各载盘于承载台上的垂直投影部分重叠于第一加热区在承载台上的垂直投影，且第一加热区于载盘上的垂直投影面积与载盘的表面积的比值大于等于0.4且小于等于0.9。

在本发明的一实施例中，上述的加热装置的多个载盘各自具有对称中心，且这些对称中心重叠于第一加热区在这些载盘上的垂直投影。