[发明专利]一种基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法和装置

权利要求书

1.一种基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法，其特征在于，包括：

S1：对含噪波前位相W_o进行预处理，得到扩展矩阵W；

S2：对扩展矩阵W进行二维离散小波分解，得到系数向量C_o；

S3：基于滤除层序号数N对系数向量C_o进行阈值降噪，得到降噪后的系数向量C_t；

S4：基于降噪后的系数向量C_t进行二维离散小波重构，得到降噪后扩展矩阵W'；

S5：对降噪后扩展矩阵W'进行后处理，得到降噪后波前位相W_t；

S1具体包括：

对含噪波前位相W_o进行复制，得到W₁～W₈；

相对W_o分别平移W₁～W₈，使噪声位相特征连续，取互不交叠部分，得到填充矩阵W_{1_u}～W_{8_u}；

将填充矩阵W_{1_u}～W_{8_u}与W_o拼接，得到W_o'；

旋转W_o'，使噪声位相方向角α满足|α-90|10°，得到W_o；

以W_o最大内接矩形为掩模板，取掩模板内数据，得到扩展矩阵W；

S1和S2之间还包括确定小波分解参数的步骤，具体包括：

选取小波基：选取近似中心周期T_w小于T/10的小波基；

确定小波分解层数：小波分解层数M为大于log₂(n/T)+1的最小整数；

确定滤除层序号数：滤除层序号数N分别为大于log₂(T/T_w)的最小整数和小于log₂(T/T_w)的最大整数，且滤除方向与噪声位相特征方向相同；

其中，T为噪声特征周期，n为扩展矩阵W的列数。

2.根据权利要求1所述的一种基于离散小波变换的光学平板波前的降噪方法，其特征在于，步骤S5具体包括：

对降噪后扩展矩阵W'进行反旋转，得到W”；

对W”适配掩模板，得到降噪后的波前位相W_t。