[发明专利]蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀OLED的方法有效

专利信息
申请号: 201911078519.0 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN110724911B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 谭伟 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 坩埚 系统 oled 方法
【权利要求书】:

1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:

外坩埚,具有一第一通孔;

内坩埚,内嵌于所述外坩埚中,具有一第二通孔;

喂料口,设于所述内坩埚与所述外坩埚之间,且连通所述第一通孔以及所述第二通孔;

其中,所述喂料口具有一缓冲槽,其截面形状包括弧形或折线形,用以放置金属固体辅材。

2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,

所述外坩埚的材料包括陶瓷。

3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,

所述内坩埚的材料包括陶瓷。

4.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,

所述喂料口由金属材料制成,且熔点高于铝。

5.一种蒸镀系统,其特征在于,包括如权利要求1所述的蒸镀坩埚,所述蒸镀系统还包括一喷嘴以及抽真空组件;其中所述喷嘴设置于所述蒸镀坩埚的上方,用来喷射由所述蒸镀坩埚产生的蒸气;所述抽真空组件与所述喷嘴相连接,能够将所述蒸镀坩埚内部抽成真空。

6.根据权利要求5所述的蒸镀系统,其特征在于,

还包括一加热装置,能够加热所述蒸镀坩埚。

7.根据权利要求6所述的蒸镀系统,其特征在于,

所述加热装置为涡流加热装置。

8.一种蒸镀OLED的方法,其特征在于,包括:

提供一OLED基板以及如权利要求7所述的蒸镀系统;

将所述抽真空组件与所述喷嘴相连接,将所述蒸镀坩埚的内部抽成真空;

放入金属固体主材至所述内坩埚中;

加热所述金属固体主材变为金属液体主材;

将所述喷嘴对准所述OLED基板进行蒸镀;

放入金属固体辅材至所述喂料口中;

加热所述金属固体辅材变为金属液体辅材;

所述金属液体辅材通过所述第二通孔流向所述内坩埚中;

继续蒸镀所述OLED基板至蒸镀结束。

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