[发明专利]蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀OLED的方法有效
申请号: | 201911078519.0 | 申请日: | 2019-11-06 |
公开(公告)号: | CN110724911B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 谭伟 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/12 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 张晓薇 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 系统 oled 方法 | ||
本发明提供一种蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀OLED的方法,蒸镀坩埚采用外坩埚套内坩埚的方式,避免内坩埚开裂漏液损坏蒸发源,从而减小了蒸镀的成本。所述喂料口具有一缓冲槽。缓冲槽用以放置金属固体辅材料,且所述加热装置可以加热所述喂料口使所述金属固体辅材料变为金属液体辅材料,这样可以避免在辅材喂料时造成坩埚壁卡线的问题。并且蒸镀可以一边蒸镀主材同时放入辅材,这大大的提高了蒸镀的效率。
技术领域
本发明涉及一种显示技术领域,尤其是涉及蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀 OLED的方法。
背景技术
目前市场的上显示屏的制作方式非常多,其中有机发光二极管(OLED) 将是未来的主流技术,目前市场的OLED器件的制作方式主流有三种:蒸镀,喷墨打印(IJP),热转印技术(LITI),其中比较成熟且运用最广的是蒸镀方式,且已经量产,蒸镀坩埚及蒸发源是蒸镀的重要组成部分,也是设备使用中使用拆装频率最高的组件。
目前的蒸镀设备主要有线源蒸发和点源蒸发两种,现有技术的点源蒸发坩埚如图1所示,通过采用涡流蒸发的方式蒸镀时,将坩埚中的金属加热蒸发镀膜,其中在蒸镀铝等消耗量比较大的金属材料时需要进行定时喂料作业,才能满足长时间的蒸镀作业。由于在蒸镀的时候需要喂料,这会导致蒸镀速率变化,蒸镀不稳定,此时不能制作产品;并且自动喂料装置喂料时有金属铝,碰到坩埚壁会造成卡料的问题,造成设备停机;还有,每次蒸镀降温,由于铝材料热胀冷缩,坩埚会有破裂的风险导致漏液,损坏蒸发源的问题,这提高了蒸发源成本;目前采用每次金属蒸发装置,通过更换新坩埚来避免漏液损坏蒸发源,这也直接提高了坩埚成本。
因此,有必要提供一种蒸镀坩埚,进而可以解决蒸镀OLED基板使成本高,效率低的问题。
发明内容
本发明的目的在于,本发明提供一种蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀OLED的方法,蒸镀坩埚采用外坩埚套内坩埚的方式,避免内坩埚开裂漏液损坏蒸发源,从而减小了蒸镀的成本。
为解决上述技术问题,本发明提供一种蒸镀坩埚,包括,外坩埚,具有一第一通孔;内坩埚,内嵌于所述外坩埚中,具有一第二通孔;喂料口,设于所述内坩埚与所述外坩埚之间,且连通所述第一通孔以及所述第二通孔。
进一步地,所述喂料口具有一缓冲槽。
进一步地,所述缓冲槽的截面形状包括弧形或折线形。
进一步地,所述外坩埚的材料包括陶瓷。
进一步地,所述内坩埚的材料包括陶瓷。
进一步地,所述喂料口由金属材料制成,且熔点高于铝。
进一步地,所述加热装置为涡流加热装置。
本发明还提供一种蒸镀系统,包括所述的蒸镀坩埚,所述蒸镀系统还包括一喷嘴以及抽真空组件;其中所述喷嘴设置于所述蒸镀坩埚的上方,用来喷射由所述蒸镀坩埚产生的蒸气;所述抽真空组件与所述喷嘴相连接,能够将所述蒸镀坩埚内部抽成真空。
进一步地,还包括一加热装置,能够加热所述蒸镀坩埚。
进一步地,所述加热装置为涡流加热装置。
本发明还提供一种蒸镀OLED的方法,包括:提供一OLED基板以及前文所述的蒸镀系统;将所述抽真空组件与所述喷嘴相连接,将所述蒸镀坩埚的内部抽成真空;放入金属固体主材至所述内坩埚中;加热所述金属固体主材变为金属液体主材;将所述喷嘴对准所述OLED基板并进行蒸镀;放入金属固体辅材至所述喂料口中;加热所述金属固体辅材变为金属液体辅材;所述金属液体辅材通过所述第二通孔流向所述内坩埚中;继续蒸镀所述OLED基板至蒸镀结束。
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