[发明专利]钙钛矿膜的制备方法及用于制备钙钛矿膜的组合物

权利要求书

1.一种钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

第一混合溶液制备步骤，加入摩尔浓度为0.01～1mol/L的金属卤化物及摩尔浓度为0.01～1mol/L的卤素有机盐至溶剂，搅拌均匀后，得到第一混合溶液；

第二混合溶液制备步骤，加入摩尔浓度为0.01～1mol/L的稳定剂至所述第一混合溶液，形成第二混合溶液；

低压蒸馏步骤，低压蒸馏处理所述第二混合溶液，得到前驱体溶液；

涂覆步骤，涂覆所述前驱体溶液至一基板上表面，所述前驱体溶液形成钙钛矿层，包括有机无机杂化钙钛矿颗粒；以及

烘干步骤，加热所述基板，所述钙钛矿层被烘干形成钙钛矿膜。

2.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

在所述烘干步骤之后，还包括

封装步骤，对所述钙钛矿膜进行封装处理。

3.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

在所述第一混合溶液或所述第二混合溶液中，

所述金属卤化物与卤素有机盐的摩尔比的比值为0.8～1.2。

4.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

所述金属卤化物包括二价的金属离子；

所述卤素有机盐包括RNH₃基团或者NH₂CH₂＝NH₂基团，其中，R为烷基。

5.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

所述溶剂包括二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或γ-丁内酯中的至少一种；

所述稳定剂包括羧酸类和/或胺类。

6.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

在所述低压蒸馏步骤中，在压强为10～1000Pa的条件下进行蒸馏处理。

7.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

在所述涂覆步骤中，

所述前驱体溶液在所述基板表面发生原位反应，形成所述钙钛矿层。

8.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

在所述涂覆步骤中，

所述有机无机杂化钙钛矿颗粒均匀分布于所述基板上表面。

9.如权利要求1所述的钙钛矿膜的制备方法，其特征在于，

在所述涂覆步骤中，

采用旋涂方式或者刮涂方式涂覆所述前驱体溶液至一基板上表面。

10.一种用于制备钙钛矿膜的组合物，其特征在于，包括：

溶剂；

金属卤化物，溶于所述溶剂，其摩尔浓度为0.01～1mol/L；

卤素有机盐，溶于所述溶剂，其摩尔浓度为0.01～1mol/L；

稳定剂，溶于所述溶剂，其摩尔浓度为0.01～1mol/L。