[发明专利]一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具及其测试方法

说明书

本发明涉及一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具及其测试方法，其治具包括底座、竖直挡板、三维调节架、吸附组件和负压组件，竖直挡板设置在底座上，竖直挡板的上端设有定位治具，三维调节架滑动设置在底座上并位于竖直挡板的一侧，且当三维调节架滑动至与竖直挡板接触时，吸附组件将二者连接固定，竖直挡板上表面设有真空吸附治具，真空吸附治具的上表面设有条形槽，且条形槽内的一端底壁与负压组件连通。本发明通过吸附组件配合负压组件将待测平面博导阵列光栅解复用器固定于三维调节架上，并通过三维调节架来回移动，方便放入和取出，不容易在定位时发生破损，不会在测试结束后取出时发生碰撞导致破损，大大提高了测试效率，保证产品质量。

技术领域

本发明涉及光通讯技术领域，尤其涉及一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具及其测试方法。

背景技术

随着通信技术的快速发展和实际应用的迅猛增长，大容量光纤通信系统的研究具有很大的应用价值,粗波分复用系统（CWDM）越来越受到人们的重视。早期应用于北美骨干网络的CWDM，现在已经迅速的推进到全世界，而且广泛应用到了城域网之中。目前国内外开发的CWDM技术主要有三种类型，他们分别基于阵列波导光栅和介质膜滤光片（TFF）以及光纤光栅（FBG）技术。波导阵列光栅是一种平面波导器件，是利用PLC技术在芯片衬底上制作的阵列波导光栅。目前与介质膜滤光片和光纤光栅相比，波导阵列光栅具有集成度高、通道数目多、插入损耗小，易于批量自动化生产等优点。四通道的波导阵列光栅CWDM目前主要应用于100G、400G等高速有源光模块中，而四通道的波导阵列光栅CWDM不同于分光器芯片的主要成分二氧化硅，其主要成分为硅基衬底，0.2mm-0.3mm厚的波导层为二氧化硅。

在实际使用中，为节约模块的空间，粗波分解复用器与有源光路采取垂直耦合的方式，而粗波分复用器输出端需研磨出41~45°的斜角，使光路可以通过反射达到与原光路垂直的目的。

因为芯片的材质为硅及二氧化硅两种易碎材质，且输出端为41-45°的斜角，所以在测试时易发生如下问题：

1、定位时易发生破损；

2、测试时不易定位；

3、测试结束后取出易发生碰撞导致破损。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具及其测试方法。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种平面波导阵列光栅解复用器的测试制具，包括底座、竖直挡板、三维调节架、吸附组件和负压组件，所述竖直挡板设置在所述底座 上，所述竖直挡板的上端朝向所述三维调节架的一侧设有用于固定高速光功率计的定位治具，所述三维调节架滑动设置在所述底座上并位于所述竖直挡板的一侧，且当所述三维调节架滑动至与所述竖直挡板接触设置时，所述吸附组件将所述三维调节架与所述竖直挡板连接固定，且所述定位治具恰好悬空位于所述三维调节架的正上方，所述三维调节架上表面设有真空吸附治具，所述真空吸附治具的上表面设有用于容纳待测平面波导阵列光栅解复用器的条形槽，且所述条形槽内靠近待测平面波导阵列光栅解复用器的反射区的一端底壁与所述负压组件连通。

本发明的有益效果是：本发明的平面波导阵列光栅解复用器的测试制具，通过所述吸附组件配合负压组件将待测平面博导阵列光栅解复用器固定于所述三维调节架上，并通过所述三维调节架来回移动，方便放入和取出，并在测试时通过所述吸附组件固定，方便定位，不容易在定位时发生破损，也不会在测试结束后取出时发生碰撞导致破损，大大提高了测试效率，并且保证了待测产品的质量。

在上述技术方案的基础上，本发明还可以做如下改进：

进一步：所述底座上位于所述竖直挡板的一侧设有导轨，所述导轨靠近所述竖直挡板的一端与所述竖直挡板接触设置，所述导轨上滑动设有滑块，所述三维调节架设置在所述滑块上，且所述滑块可带动所述真空吸附治具沿着所述导轨滑动，以靠近或远离所述竖直挡板。