[发明专利]镀膜机离子源总装

说明书

本发明提供了镀膜机离子源总装，包括壳体和安装在壳体上的离子源，壳体为长方体结构，壳体一面开口、具有容纳腔，离子源位于所述壳体的容纳腔内，离子源的上端和下端各设有一个安装柱，安装柱穿过壳体，离子源通过两个安装柱架设在壳体上，壳体侧面上设有安装翼，所述开口一端沿着开口一周设有密封台。本发明壳体和离子源装配成一个总装，可形成一个标准件或定制件，直接将其安装在镀膜生产线的腔室壁面，无需其它零散部件进行支撑和密封，安装和维修方便，壳体上有抽真空孔、辅助孔等功能性设置。

技术领域

本发明涉及镀膜生产技术领域，具体为镀膜机离子源总装。

背景技术

离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。离子源类型虽多，在镀膜工艺中，离子源的目的主要为在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。

在镀膜生产线中，离子源需要安装在生产线上相应腔室的壳体上，以按照设计方向和位置引出离子束流。然而，现有的离子源在安装时，一般是将离子源单独安装在生产线的壳体上，再利用其它密封、支撑装置进行支撑和密封。上述安装方式繁琐，且极有可能导致密封时效。

发明内容

针对现有技术存在的上述问题，本发明的目的是提供镀膜机离子源总装，壳体和离子源装配成一个总装，可形成一个标准件或定制件，直接将其安装在镀膜生产线的腔室壁面，无需其它零散部件进行支撑和密封，安装和维修方便，壳体上有抽真空孔、辅助孔等功能性设置。

为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

镀膜机离子源总装，包括壳体和安装在壳体上的离子源，壳体为长方体结构，壳体一面开口、具有容纳腔，离子源位于所述壳体的容纳腔内，离子源的上端和下端各设有一个安装柱，安装柱穿过壳体，离子源通过两个安装柱架设在壳体上，壳体侧面上设有安装翼，所述开口一端沿着开口一周设有密封台。

作为上述技术方案的进一步改进为：

安装翼包括至少一个第一安装翼和至少一个第二安装翼，第一安装翼和第二安装翼分别布置在所述开口的两侧。

第一安装翼设有两个，第二安装翼设有两个，第一安装翼的面积小于第二安装翼的面积。

所述开口一端沿着开口一周设有密封台，沿着密封台围设一周密封棉或密封橡胶。

离子源的两个安装柱一端活动连接离子源，另一端穿过壳体的壁面。

安装柱为中空的，安装柱内设有铰接杆，铰接杆一端铰接离子源，另一端通过中空的安装柱。

壳体容纳腔的顶面和底面分别安装有一个限位座，限位座固定安装在壳体容纳腔的壁面上，限位座上设有弧形的通孔，离子源的顶面和底面各设有一个限位销，离子源转动时，限位销在所述弧形的通孔内滑动，使离子源的只能在一定范围内转动。

离子源的第一电源端和第二电源端位于壳体容纳腔的外部，第一电源端和第二电源端的一端连接离子源，另一端位于壳体容纳腔的外部，用于连接外部电源。

壳体上还开设有至少一个抽真空孔、辅助孔，抽真空孔和辅助孔不使用时处于密封状态。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：壳体和离子源装配成一个总装，可形成一个标准件或定制件，直接将其安装在镀膜生产线的腔室壁面，无需其它零散部件进行支撑和密封，安装和维修方便，壳体上有抽真空孔、辅助孔等功能性设置，无需在镀膜生产线的腔室壁面上单独开设。

附图说明

图1为本发明一个实施例的立体图；

图2为本发明一个实施例的主视结构示意图；

图3为本发明一个实施例的侧视示意图；