[发明专利]一种旋转靶材的垂直绑定结构以及绑定方法

说明书

本发明涉及一种旋转靶材的垂直绑定结构以及绑定方法，该种旋转靶材包括衬管(2)、和套设在所述衬管(2)外的多个靶管(1)，所述衬管(2)的外周面和所述靶管(1)的内周面之间通过连接层(7)固定，其特征在于：所述连接层(7)为胶体层，所述连接层(7)内匹配设置有辅助连接部件。该种能垂直绑定结构能灵活用于不同长度的靶管(1)和异形靶、连接强度更好、成本低廉、操作方便。

技术领域

本发明涉及靶材绑定领域，尤其涉及一种旋转靶材的垂直绑定结构以及绑定方法。

背景技术

磁控溅射镀膜是目前镀膜行业应用广泛的镀膜沉积工艺。溅射镀膜的原理是在真空条件下，通过电子枪氩离子对靶材表面进行轰击，靶材表面材料以分子、原子、离子或电子等形式被溅射出来，飞溅到基板上沉积成膜。

溅射靶材通常有两类：平面靶材和旋转靶材，其中平面靶材的利用率只有20-30％，为了提高靶材的利用率，旋转靶材被越来越多地应用于实际制造中。并且随着科技的进步，越来越需要大尺寸的旋转靶材。

对于陶瓷靶管和某些金属靶管，由于其脆性大，很难用浇注法和喷涂方法生产，只能用冷等静压加烧结或热等静压方法生产出一节节靶管，然后通过绑定到衬管上形成大尺寸靶材。目前常用的绑定方式可参考公开号为CN206366646U的中国实用新型专利《一种陶瓷旋转靶材邦定的金属密封系统》，该种旋转靶材包括金属背管和套置在金属背管外部的第一陶瓷旋转靶材，其中，金属背管和第一陶瓷旋转靶材在底部由一堵头密封形成空腔；金属背管的管内设置有内加热器，并且，第一陶瓷旋转靶材的外部设置有外加热器；金属背管和第一陶瓷旋转靶材之间的空腔内浇铸有低熔点金属绑定层，现有技术中的低熔点金属焊料常用铟。在绑定过程中利用密封装置使得两段靶材间保持密封，从而低熔点金属不致流失。

采用这种方式进行绑定，需要对连接面用铟先进行润湿，需要在靶管的内周面上涂上铟，一旦靶管长度较长，或是异形靶，就无法进行均匀润湿，从而影响连接强度，无法满足客户对不同长度靶管和异形靶绑定的需求；并且使用铟绑定的价格较高；在依次绑定各个靶管的过程中，内外加热器需要长期保持加热状态，操作较为不便，且对于操作人员不安全。因此，需要一种能解决上述问题的旋转靶材的垂直绑定结构以及绑定方法。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术的现状提供一种能灵活用于不同长度的靶管和异形靶、连接强度更好的垂直绑定结构

本发明要解决的另一个技术问题是提供一种能实现上述垂直绑定结构的绑定方法。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：

一种旋转靶材的垂直绑定结构，包括衬管、和套设在所述衬管外的多个靶管，所述衬管的外周面和所述靶管的内周面之间通过连接层固定，其特征在于：所述连接层为胶体层，所述连接层内匹配设置有辅助连接部件。

优选的，所述辅助连接部件为匹配包围所述衬管的外周面的金属网。使用金属网装配时较为方便，且使用效果良好。

优选的，所述金属网为镍网、钛网、钼网、钨网、铌网、银网、铜网、不锈钢网中的任意一种。

优选的，所述辅助连接部件为多个金属片，所述金属片的长度与所述衬管的长度相匹配，所述金属片在所述衬管的外周面沿周向间隔排列。使用金属片作为辅助连接部件连接强度更好。

为了进一步提高连接强度，所述金属片上设有多个通孔。

优选的，所述通孔间隔均匀排列，且所述通孔的形状为圆形或三角形或六角形。

优选的，所述金属片为镍片、钛片、钼片、钨片、铌片、银片、铜片、不锈钢片中的任意一种。

优选的，所述胶体层为环氧树脂灌封胶、有机硅灌封胶、聚氨酯灌封胶、石墨灌封胶、铜粉导电胶、银粉导电胶、镍粉导电胶中的任意一种。