[发明专利]成膜装置

说明书

本申请提供一种成膜装置，包括：真空容器；绕垂直轴线转动的基板保持单元，其能保持多个基板；位于所述真空容器内部的成膜区域，所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板；可拆卸地安装于所述真空容器内的隔离单元，其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开。本申请提供的成膜装置能够改善成膜质量。

技术领域

本申请涉及通过进行溅射而在基板上形成薄膜的成膜装置。

背景技术

目前，在真空容器内使用等离子化的反应性气体进行基板上的薄膜形成、所形成的薄膜的表面改质、蚀刻等的等离子处理。例如，以下技术是公知的：使用溅射技术在基板上形成由金属不完全反应物构成的薄膜，使该由不完全反应物构成的薄膜与等离子化的反应性气体接触，形成由金属化合物构成的薄膜。

如图1所示，为溅射成膜装置中的成膜处理区(成膜区域)的结构示意图。在成膜装置的真空容器内具有成膜区域及反应区域。在成膜区域中，在工作气体的环境下，对由金属构成的靶材4进行溅射，进行溅射粒子的堆积和基于溅射等离子体的等离子处理，形成中间薄膜。在反应区域中，使在含有反应性气体的环境下产生的等离子体中的、电中性的反应性气体的活性物质与移动来的基板的中间薄膜接触而发生反应，将所述中间薄膜转换为由金属的完全反应物构成的连续的超薄膜。

为了在真空容器内部分别在空间上和压力上将反应区域与成膜区域隔开，在真空容器的内壁面通常设有隔离罩(Shield)。其中，反应区域及成膜区域均设有隔离罩，从而在真空容器内部相对独立出来。另外，真空容器中有时会设置不同的成膜区域，以对不同的两种物质进行溅射，同样为了在真空容器内部分别在空间上和压力上将两个成膜区域隔开，在真空容器内部同样需要隔离罩将反应区域独立出来。

现有的隔离罩将真空容器内部的区域(反应区域与成膜区域、或不同的成膜区域之间)相隔离开，维持各个工序之间的独立运行，避免不同工序间的相互干扰，从而影响成膜质量。同时，为了抑制薄膜的散射增大，在成膜区域中需要减少倾斜入射成分。通过采用隔离罩，隔离罩能够防止直线前进的溅射粒子作为倾斜入射成分混入到薄膜中，从而抑制薄膜的散射增大。

现有成膜装置形成的薄膜中容易掺杂来自隔离罩的元素颗粒，造成薄膜质量下降。

发明内容

技术问题：

经过研究发现，目前隔离罩焊接于真空容器中，在不同批次的成膜过程中无法对隔离罩更换，在长期使用过程中隔离罩受到溅射的影响逐渐加深，从而容易释放出自身的元素颗粒而进入薄膜中，使得薄膜中掺入杂质，降低薄膜质量；并且，来自隔离罩的元素颗粒也会影响薄膜元素正常成膜，导致在成膜过程中形成异常成膜现象，降低薄膜质量。

本申请的技术方案如下：

一种成膜装置，包括：

真空容器；

绕垂直轴线转动的基板保持单元，其能保持多个基板；

位于所述真空容器内部的成膜区域，所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板；

可拆卸地安装于所述真空容器内的隔离单元，其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开。

作为一种优选的实施方式，所述隔离单元可拆卸地安装于所述真空容器的内侧壁上。

作为一种优选的实施方式，所述隔离单元由所述真空容器的内侧壁向所述基板保持单元延伸；所述隔离单元的长度方向与所述基板保持单元的轴向平行。

作为一种优选的实施方式，所述隔离单元包括相对设置的两个隔离罩；所述成膜区域位于两个所述隔离罩之间。

作为一种优选的实施方式，所述隔离单元被设置为在所述基板保持单元送入或移出所述真空容器内时拆卸或安装。