[发明专利]基板处理装置

说明书

本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：移送部，移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，并检测被照射的光；及控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，并控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，其中，所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘中未透过所述相互不同的两束光中的第一光的时刻及为透过所述相互不同的两束光中的第二光的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置。

背景技术

在制造半导体设备或显示设备时，实施照相、蚀刻、刻板、离子注入、薄膜层积、清洗等各种工艺。在此，照相工艺包括涂抹、曝光及显像工艺。在基板上涂抹涂渍溶液(即，涂抹工艺)，在形成有感光膜的基板上曝光电路图案(即，曝光工艺)，有选择地显像基板的曝光处理的区域(即，显像工艺)。

对一个基板而执行各种工艺处理，对于各个工艺处理在相互不同的单独的腔执行。因此，在腔之间执行基板的移动，以用于执行对基板的完全的工艺处理。

发明的内容

发明要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题为提供一种基板处理装置。

本发明的课题并非通过上述言及的课题限定，未言及的或其它课题通过下面的记载而使本领域技术人员明确理解。

用于解决问题的技术方案

用于实现所述课题的本发明的基板处理装置的一方面(aspect)包括：移送部，供移送透明方形基板；基板支撑部，支撑所述被移送的透明方形基板；光产生部，向移动中的所述透明方形基板照射相互不同的两束光，检测所照射的光；及控制装置，参照所述检测的光，判断所述透明方形基板的姿态，并控制所述移送部，以使按提前设定的基本姿态而将所述透明方形基板安装在所述基板支撑部，其中，所述控制装置利用在所述透明方形基板的边缘，所述相互不同的两束光中的第一光未透过的时刻及所述相互不同的两束光中的第二光未透过的时刻之间的时间差，而判断所述基本姿态对应的所述透明方形基板的姿态。

所述光产生部包括：第一及第二光照射部，以垂直于地面的方向而分别照射第一光及第二光；及第一及第二光检测部，在所述第一及第二光照射部的上部或下部而配置在与地面平行的一个直线上，分别检测所述照射的第一光及第二光。

所述移送部在所述透明方形基板的宽的面平行配置于地面的状态下，以垂直于所述第一光及第二光的光照射方向的方向，移动所述透明方形基板，以使所述透明方形基板通过所述第一光及第二光。

基本姿态对应的透明方形基板的姿态包括配置有第一光检测部及第二光检测部的方向与形成于透明方形基板的边缘之间的角度。

所述控制装置利用在所述透明方形基板的一侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻与在所述一侧边缘的对侧边缘未透过所述第一光及第二光的时刻之间的时间差而判断所述透明方形基板的中心线。

所述控制装置控制所述移送部，以使所述透明方形基板的中心线与所述基板支撑部的中心线保持一致。

其它实施例的具体事项包含于具体说明及附图中。

附图说明

图1为显示本发明的实施例的基板处理装置的附图；

图2为显示本发明的实施例的透明方形基板的附图；

图3为显示向本发明的实施例的透明方形基板照射光的附图；

图4及图5为显示本发明的实施例的透明方形基板通过光产生部的附图；