[发明专利]反光结构及制备方法

权利要求书

1.一种反光结构制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）提供绝缘层和热熔胶，将热熔胶涂布于所述绝缘层的其中一面；

（2）所述绝缘层的另一面形成金属反射层；

（3）提供防氧化液，所述将所述防氧化液涂布于所述金属反射层远离绝缘层一面并固化，形成防氧化层。

2.如权利要求1所述的反光结构制备方法，其特征在于，在步骤（1）中，将热熔胶涂布于绝缘层一面后，于所述热熔胶表面覆盖保护膜。

3.如权利要求1所述的反光结构制备方法，其特征在于，在步骤（2）中，所述金属反射层通过于绝缘层表面进行金属离子溅射形成。

4.如权利要求1所述的反光结构制备方法，其特征在于，所述金属反射层的材料为镍、铬、铝、银、铜、不锈钢、锡以及镍合金、铬合金、铝合金、银合金、铜合金、锡合金中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的反光结构制备方法，其特征在于，所述热熔胶包括以下组分：

30-45%质量分数的半成品1、10-20%质量分数的半成品2、10-20%质量分数的半成品3、0.05-0.1%质量分数的半成品4、 1-0.5%质量分数的半成品5、 1-0.5%质量分数的半成品6、25-40%质量分数的半成品7以及稀释剂10-35%；

其中，半成品1包括10%-30%质量分数的橡胶以及70%-90%质量分数的稀释剂；半成品2包括40%-50%质量分数的半成品1、20%-30%质量分数的阻燃剂以及20%-40%质量分数的稀释剂；半成品3包括20%-40%质量分数的固化剂以及60%-80%质量分数的稀释剂；半成品4包括10%-20%质量分数的半成品1、40%-60%质量分数的离子捕捉剂以及20%-50%质量分数的稀释剂；半成品5包括20%-40%质量分数的抗氧化剂以及60%-80%质量分数的稀释剂；半成品6包括20%-30%质量分数的促进剂以及70%-80%质量分数的稀释剂；半成品7包括40%-60%质量分数的树脂以及40%-60%质量分数的稀释剂。

6.如权利要求5所述的反光结构制备方法，其特征在于，所述热熔胶的制备包括以下步骤：

提供橡胶、阻燃剂、固化剂、离子捕捉剂、抗氧化剂、促进剂、树脂以及稀释剂并混合，得到混合溶液；

混合溶液利用高速分散机分散乳化；

分散乳化的混合溶液使用过滤网过滤，所得为热熔胶。

7.如权利要求6所述的反光结构制备方法，其特征在于，在步骤混合溶液利用高速分散机分散乳化中，高速分散机转速800-1200r/min ，分散乳化时间持续3-5h，并控制温度在25-30℃范围内；

在步骤分散乳化的混合溶液使用过滤网过滤中，所述过滤网过滤出的热熔胶胶粒的粒径不低于5-10微米。

8.如权利要求1所述的反光结构制备方法，其特征在于，所述防氧化液包括以下组分：

60-70%质量分数的1-甲氧基-2-丙醇、10-20%质量分数的二氧化硅、10-20%质量分数的丙烯酸酯单体、5-15%质量分数的丙烯酸酯聚合物、1-5%质量分数的光引化剂。

9.一种如权利要求1-8任一项所述反光结构，其特征在于，包括：

金属反射层，用于反射光线；

高透光率的防氧化层，形成于金属反射层的其中一面；

绝缘层，设于金属反射层的另一面，用于使金属反射层绝缘；以及

胶层，设于绝缘层远离金属反射层一面。

10.如权利要求8所述的反光结构，其特征在于，还包括保护膜，所述保护膜盖贴设于热熔胶上。