[发明专利]钟摆阀定位治具组件及半导体加工设备

权利要求书

1.一种钟摆阀定位治具组件，其特征在于，包括定位刻度盘(1)，所述定位刻度盘(1)上设置有多个同心设置的定位圆环(11)和位于所述定位圆环(11)中心处的中心点标识部(12)，任意相邻两个所述定位圆环(11)之间的间距相等。

2.根据权利要求1所述的钟摆阀定位治具组件，其特征在于，所述定位刻度盘(1)上还设置有相互垂直的两条定位线(13)，在至少一条所述定位线(13)上设置有多条刻度线(14)。

3.根据权利要求2所述的钟摆阀定位治具组件，其特征在于，所述刻度线(14)的刻度精度为2mm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的钟摆阀定位治具组件，其特征在于，所述钟摆阀定位治具组件还包括自动偏差补偿装置，用于实时检测钟摆阀的位置偏差并自动进行补偿。

5.根据权利要求4所述的钟摆阀定位治具组件，其特征在于，所述自动偏差补偿装置包括：

位置感应器(15)，用于实时检测钟摆阀的位置偏差；

控制装置，与所述位置感应器(15)信号连接；以及，

驱动装置(23)，与所述控制装置信号连接，且驱动连接所述钟摆阀；

所述控制装置能够根据所述位置感应器(15)检测的位置偏差控制所述驱动装置(23)驱动钟摆阀摆动进行位置补偿。

6.根据权利要求5所述的钟摆阀定位治具组件，其特征在于，所述位置感应器(15)的数量为两个，两个所述位置感应器(15)的检测方向相垂直。

7.一种半导体加工设备，包括钟摆阀，其特征在于，还包括如权利要求1至6中任一项所述的钟摆阀定位治具组件。

8.根据权利要求7所述的半导体加工设备，其特征在于，在所述钟摆阀的阀体(21)的中心上设置有定位标示部(211)，所述定位标示部(211)与所述中心点标识部(12)相重合。

9.根据权利要求7所述的半导体加工设备，其特征在于，所述半导体加工设备包括腔室(3)，所述腔室(3)通过进气管(31)连通至反应气体存储装置，所述腔室(3)内设置有用于承载硅片(4)的载台(5)，所述腔室(3)通过腔室管道(32)连接至涡轮泵(6)，所述钟摆阀设置在所述腔室(3)和所述涡轮泵(6)之间。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的半导体加工设备，其特征在于，所述阀体(21)与所述定位刻度盘(1)的尺寸相同。