[发明专利]晶花干粒釉及使用该晶花干粒釉制得的定位晶花陶瓷砖

权利要求书

1.一种陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在坯体上喷墨打印图案；

在打印有图案的坯体上定位布施晶核剂；所述晶核剂的原料包括：按质量百分比计，钾长石：15～25%、钠长石：5～15%、石英：10～14%、氧化铝：0.5～1.5%、方解石：14～18%、氧化锌：8～12%、萤石：1～3%、硼酸：1～3%、磷酸钙：1～2%、金红石：15～17%、锆英粉：7～9%、氧化钨：1～2%；

在布施有晶核剂的坯体上布施晶花干粒釉；所述晶花干粒釉的原料包括：按质量百分比计，钾长石：53～63%、石英：10～14%、方解石：11～15%、白云石：0～4%、氧化锌：10～12%、碳酸钡：0～2%、碳酸锶：2～4%；

将布施有晶花干粒釉的坯体烧成、采用全抛工艺抛光。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述晶花干粒釉通过如下方法得到：将所述各原料按配比混合并在1300～1400℃的温度下熔融成玻璃液，将玻璃液水淬后加工成30～100目的干粒。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述晶花干粒釉的化学组成包括：按质量百分比计，SiO₂：55.0～60.0%、Al₂O₃：9.0～11.0%、Fe₂O₃：0～0.15%、TiO₂：0～0.1%、CaO：6.5～11.0%、MgO：0～1.5%、K₂O：6.0～7.0%、Na₂O：0.5～1.5%、ZnO：10.5～12.5%、BaO：0～2.0%、SrO：1.5～3.0%、烧失：0.5～1.0%。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在坯体上施釉后再喷墨打印图案，所述釉为喷墨发色釉。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述喷墨发色釉的原料包括：按质量百分比计，钾长石：33～45%、钠长石：15～25%、高岭土：22～27%、煅烧氧化铝：5～9%、硅酸锆：8～10%。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述喷墨发色釉的化学组成包括：按质量百分比计，SiO₂：55.0～60.0%、Al₂O₃：23.5～25.5%、Fe₂O₃：0～0.5%、TiO₂：0～0.1%、CaO：0～0.5%、MgO：0～0.3%、K₂O：4.0～5.5%、Na₂O：2.0～3.5%、ZrO₂：6.0～12.0%、烧失：3.0～4.5%。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述晶核剂的化学组成包括：按质量百分比计，SiO₂：37～40.5%、Al₂O₃：5.5～7.0%、Fe₂O₃：0～0.2%、TiO₂：16.0～18.0%、CaO：10.0～12.5%、MgO：0.1～0.5%、K₂O：1.0～2.5%、Na₂O：1.0～2.5%、ZnO：8.0～13.0%、F：0.5～1.5%、ZrO₂：4.5～6.5%、P₂O₅：0.5～1.0%、B₂O₃：0.5～2.0%、WO₃：1.0～2.5%、烧失：1.0～2.0%。

8.一种使用权利要求1至7中任一项所述的陶瓷砖的制备方法制得的陶瓷砖。