[发明专利]掩模板及掩模板的制造方法

权利要求书

1.一种掩模板，其特征在于，所述掩膜板包括透光区，至少部分所述透光区内设有透光层，所述透光层内设有金属有机框架聚合物。

2.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光区包括用于在阵列基板上形成光阻层的透光孔，所述透光层对应所述透光孔设置，所述透光层内金属有机框架聚合物的密度沿所述透光孔的中部至两端的方向逐渐增高。

3.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光区包括用于在阵列基板上形成光阻层的透光孔，所述透光层对应所述透光孔设置；所述透光层的厚度沿所述透光孔的中部至两端的方向逐渐增高。

4.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光层的厚度大于或等于0.01mm，且小于或等于0.2mm。

5.如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述金属有机框架聚合物的总体积与所述透光层的体积的比值大于或等于10％，且小于或等于80％。

6.如权利要求1至5中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述金属有机框架聚合物中的金属元素包括过渡金属、主族金属和稀土金属中的一种或多种。

7.如权利要求1至5中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述透光层的材质包括玻璃、聚氨酯树脂或乙烯-聚醋酸乙烯酯共聚物。

8.如权利要求1至5中任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩膜板包括透明基板，及设于所述透明基板侧面的遮光层，所述透明基板的未被遮光层覆盖的区域形成所述透光区。

9.一种掩模板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供透明基板；

在所述透明基板上设置遮光层，以在所述透明基板未被所述遮光层覆盖的区域形成透光区；

在至少部分所述透光区内设置透光层，所述透光层内设有金属有机框架聚合物。

10.如权利要求9所述的掩模板的制造方法，其特征在于，所述透光区包括用于在阵列基板上形成光阻层的透光孔，所述透光层对应所述透光孔设置，所述掩模板的制造方法还包括：

将所述透光层背离所述透明基板一侧的部分材料去除，以使透光层的厚度由中部至两端逐渐增加。