[发明专利]掩模框架组件

说明书

提供一种掩模框架组件，该掩模框架组件包括：框架；掩模，结合到框架并且包括用于在基底上的沉积的图案区域；以及长边杆，结合到框架并且将掩模的图案区域划分为单位单元图案。长边杆可以包括其中堆叠有相对铁磁性层和相对弱磁性层的包覆结构。

于2019年1月21日在韩国知识产权局提交的名称为“掩模框架组件及其制造方法(Mask Frame Assembly and Manufacturing Method Thereof)”的第10-2019-0007582号韩国专利申请通过引用全部包含于此。

技术领域

实施例涉及一种用于沉积工艺的掩模框架组件，以及一种制造该掩模框架组件的方法。

背景技术

通常，有机发光显示装置可以根据通过其从阳极和阴极注入的空穴和电子在发射层中复合并发光的原理来实现彩色。像素均具有其中发射层位于作为阳极的像素电极与作为阴极的对电极之间的堆叠结构。

每个像素可以是红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素中的一种，通过三种颜色的子像素的组合可以表达目标颜色。因此，在每个子像素中，发射红色光、绿色光和蓝色光之一的发射层位于两个电极之间，通过三种颜色的光的适当组合来表达像素单元的颜色。

发明内容

实施例针对一种掩模框架组件，该掩模框架组件包括：框架；掩模，结合到框架，并且包括用于在基底上的沉积的图案区域；以及长边杆，结合到框架，并且将掩模的图案区域划分为单位单元图案。长边杆可以包括其中堆叠有相对铁磁性层和相对弱磁性层的包覆结构。

在堆叠方向上，相对铁磁性层的厚度可以大于相对弱磁性层的厚度。

在宽度方向上突出的突起可以位于相对弱磁性层处。

突起可以对应于在单位单元图案的一侧处的非发射图案。

突起可以包括半圆形形状。

多个突起可以沿长度方向周期性布置在相对弱磁性层的在宽度方向上的端部处。

包覆结构可以包括其中相对弱磁性层位于一对相对铁磁性层之间的结构。

相对铁磁性层可以是铁镍合金层，相对弱磁性层可以是不锈钢层。

当磁力从与长边杆相对的位置施加到长边杆时，长边杆可以使得掩模和基底紧密接触，掩模和基底位于所述位置与长边杆之间。

通过长边杆施加到掩模的接触力可以是相对铁磁性层的相对强的吸引力和相对弱磁性层的相对弱的吸引力的组合。

附图说明

通过参照附图详细描述示例实施例，特征对于本领域技术人员将变得明显，在附图中：

图1示出了其中使用根据示例实施例的掩模框架组件的沉积工艺；

图2示出了图1中所示的掩模框架组件的分解透视图；

图3示出了图1中所示的掩模框架组件的俯视图；

图4示出了图2中所示的区域A的放大透视图；

图5A至图5C是顺序地示出制造在图1中所示的掩模框架组件中的长边杆的工艺的剖视图；以及

图6示出了图1中所示的目标基底的详细结构的剖视图。

具体实施方式

现在将参照附图在下文中更充分地描述示例实施例；然而，这些示例实施例可以以不同形式实施，并且不应当被解释为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且将向本领域技术人员充分传达示例实施方式。在绘制的图中，为了说明的清楚，层和区域的尺寸可以夸大。同样的附图标记始终指示同样的元件。