[发明专利]图案检查装置以及图案检查方法在审
申请号: | 201911118601.1 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN111192836A | 公开(公告)日: | 2020-05-22 |
发明(设计)人: | 井上贵文;中岛和弘;矶部学;秋山裕照 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 检查 装置 以及 方法 | ||
1.一种图案检查装置,具备:
光学图像取得机构,从形成有多个图形图案的基板取得多个区域的光学图像数据;
多个比较处理电路,进行裸片-裸片检查处理与裸片-数据库检查处理中的一方的处理,该裸片-裸片检查处理将光学图像数据彼此进行比较,该裸片-数据库检查处理将光学图像数据与根据设计图案数据制作的参照图像数据进行比较;以及
检查处理电路,以如下方式进行控制,按所述多个区域的每个区域,将该区域的光学图像数据分别向所述多个比较处理电路中的按每个所述区域可变地设定的数量的比较处理电路输出,对所述光学图像数据的输出目的地的各比较处理电路进行所述裸片-裸片检查处理或所述裸片-数据库检查处理。
2.如权利要求1所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置还具备面积比率运算处理电路,该面积比率运算处理电路按每个所述区域,运算该区域内进行所述裸片-裸片检查处理的区域部分与进行所述裸片-数据库检查处理的区域部分的面积比率,
所述检查处理电路,根据所述面积比率,可变地控制作为所述光学图像数据的输出目的地的进行所述裸片-裸片检查处理的比较处理电路的数量与进行所述裸片-数据库检查处理的比较处理电路的数量。
3.如权利要求1所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置还具备:
数据尺寸运算处理电路,按每个所述区域,运算该区域的设计图案数据的数据尺寸;以及
数据量比率运算处理电路,运算所述数据尺寸与数据量阈值之间的数据量比率,
所述检查处理电路,按每个所述区域,根据所述数据量比率,可变地控制进行所述裸片-数据库检查处理的比较处理电路的数量。
4.如权利要求1所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置,还具备:
困难度运算处理电路,按每个所述区域,使用该区域的设计图案数据来运算该区域的参照图像制作的困难度;以及
困难度比率运算处理电路,运算所述困难度与困难度阈值之间的困难度比率,
所述检查处理电路,按每个所述区域,根据所述困难度比率,可变地控制进行所述裸片-数据库检查处理的比较处理电路的数量。
5.如权利要求1所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置还具备区域判定处理电路,该区域判定处理电路,按每个所述区域,判定该区域内进行所述裸片-裸片检查处理的部分与进行所述裸片-数据库检查处理的部分。
6.如权利要求2所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置还具备区域分割处理电路,该区域分割处理电路按每个所述区域,根据所述面积比率,将进行所述裸片-裸片检查处理的区域部分与进行所述裸片-数据库检查处理的区域部分中的检查处理时间耗时较长的一方的区域分割为多个小区域。
7.如权利要求2所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置还具备决定处理电路,该决定处理电路按每个所述区域,根据所述面积比率,可变地决定进行所述裸片-裸片检查处理的比较处理电路的数量与进行所述裸片-数据库检查处理的比较处理电路的数量。
8.如权利要求7所述的图案检查装置,其特征在于,
所述图案检查装置还具备:
数据尺寸运算处理电路,按每个所述区域,运算该区域的设计图案数据的数据尺寸,以及
数据量比率运算处理电路,运算所述数据尺寸与数据量阈值之间的数据量比率,
所述决定处理电路,根据所述数据量比率,将进行所述裸片-数据库检查处理的比较处理电路的数量决定为比与所述面积比率对应的数量多。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造