[发明专利]水波纹渲染方法、装置、设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 201911119560.8 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN110866967B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 夏露辉;许秋子 申请(专利权)人: 深圳市瑞立视多媒体科技有限公司
主分类号: G06T15/04 分类号: G06T15/04;G06T15/00
代理公司: 北京市京大律师事务所 11321 代理人: 谢文强
地址: 518054 广东省深圳市南山区粤海街道沙*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 水波 渲染 方法 装置 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种水波纹渲染方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:

创建一个水面波纹着色器,在所述水面波纹着色器中创建一个水面材质球,将所述水面材质球放在一个预先创建的水面图层上;

获取所述水面图层中每个像素点的纹理坐标,对所述水面图层中每个像素点的纹理坐标进行偏移处理,以在所述水面图层中生成水面图像;

所述获取所述水面图层中每个像素点的纹理坐标,对所述水面图层中每个像素点的纹理坐标进行偏移处理,以在所述水面图层中生成水面图像的步骤包括:

在所述水面图层上添加纹理,所述纹理划分为uv值向上偏移部分和uv值向下偏移部分,所述uv值表示纹理坐标,所述u代表水平方向,所述v代表垂直方向,所述uv值为水平方向和垂直方向的坐标值;

分别获取所述uv值向上偏移部分和所述uv值向下偏移部分中每个像素点的纹理坐标;

对所述uv值向上偏移部分中每个像素点的纹理坐标进行向上偏移处理,并对所述uv值向下偏移部分中每个像素点的纹理坐标进行向下偏移处理,得到所述水面图层中每个像素点进行偏移处理后的纹理坐标;

根据所述水面图层中每个像素点进行偏移处理后的纹理坐标和预设的噪声纹理数据,在所述水面图层中生成水面图像;

创建一个水底波纹着色器,在所述水底波纹着色器中创建一个水底材质球,将所述水底材质球放在一个预先创建的水底图层上;

获取所述水底图层中每个像素点的纹理坐标,对所述水底图层中每个像素点的纹理坐标进行偏移处理,以在所述水底图层中生成水底图像;

所述获取所述水底图层中每个像素点的纹理坐标,对所述水底图层中每个像素点的纹理坐标进行偏移处理,以在所述水底图层中生成水底图像的步骤包括:

调用所述水底波纹着色器的顶点函数;

在所述水底波纹着色器的顶点函数中,将所述水底图层的顶点从模型空间转化为世界空间,得到所述水底图层中每个像素点的纹理坐标;

调用所述水底波纹着色器的片元函数,所述片元函数用于把模型空间上物体每个像素点上的颜色进行变换计算,得到一个颜色值并渲染到裁剪空间中对象对应的像素点上;

在所述水底波纹着色器的片元函数中,使用预设的时间函数、正弦函数和余弦函数对所述水底图层中每个像素点的纹理坐标进行偏移处理;

根据所述水底图层中每个像素点进行偏移处理后的纹理坐标,在所述水底图层中生成水底图像;

将所述水面图像和所述水底图像进行叠加,以生成目标水波纹图像。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述创建一个水面波纹着色器,在所述水面波纹着色器中创建一个水面材质球,将所述水面材质球放在一个预先创建的水面图层上的步骤之前,还包括:

接收图层创建指令;

根据所述图层创建指令创建一个水面图层和一个水底图层。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述分别获取所述uv值向上偏移部分和所述uv值向下偏移部分中每个像素点的纹理坐标的步骤包括:

调用所述水面波纹着色器的顶点函数;

在所述水面波纹着色器的顶点函数中,将所述uv值向上偏移部分的顶点从模型空间转化为世界空间,得到所述uv值向上偏移部分中每个像素点的纹理坐标,将所述uv值向下偏移部分的顶点从模型空间转化为世界空间,得到所述uv值向下偏移部分中每个像素点的纹理坐标。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述uv值向上偏移部分中每个像素点的纹理坐标进行向上偏移处理,并对所述uv值向下偏移部分中每个像素点的纹理坐标进行向下偏移处理,得到所述水面图层中每个像素点进行偏移处理后的纹理坐标的步骤包括:

调用所述水面波纹着色器的片元函数,所述片元函数用于把模型空间上物体每个像素点上的颜色进行变换计算,得到一个颜色值并渲染到裁剪空间中对象对应的像素点上;

在所述水面波纹着色器的片元函数中,使用预设的时间函数对所述uv值向上偏移部分中每个像素点的纹理坐标进行向上偏移处理,并对所述uv值向下偏移部分中每个像素点的纹理坐标进行向下偏移处理,得到所述水面图层中每个像素点进行偏移处理后的纹理坐标。

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