[发明专利]一种制程设备的控制方法及装置在审
申请号: | 201911120220.7 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN110808222A | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 温昕;佘迎松 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/66 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 设备 控制 方法 装置 | ||
1.一种制程设备的控制方法,其特征在于,所述制程设备用于制备显示面板;所述方法包括:
获取当前制程阶段的制程设备的第一制程参数,并对所述第一制程参数进行训练,得到第一预测数据;
根据所述第一预测数据判断所述显示面板是否满足预设条件;
当所述显示面板不满足预设条件时,则对所述制程设备或者所述显示面板进行异常处理。
2.根据权利要求1所述的制程设备的控制方法,其特征在于,所述根据所述第一预测数据判断所述显示面板是否满足预设条件的步骤包括:
将所述第一预测数据与预设阈值进行比较;
当所述第一预测数据超过所述预设阈值时,则确定所述显示面板不满足预设条件。
3.根据权利要求1所述的制程设备的控制方法,其特征在于,所述对当前制程阶段制程设备的第一制程参数进行训练,得到第一预测数据的步骤包括:
将当前制程阶段的制程设备的第一制程参数输入目标训练模型进行训练。
4.根据权利要求3所述的制程设备的控制方法,其特征在于,所述将当前制程阶段的制程设备的第一制程参数输入目标训练模型进行训练的步骤之前,所述方法还包括:
获取上一制程阶段中所述制程设备的初始制程参数;
通过多个预设训练模型分别对所述初始制程参数进行训练,得到多个初始预测数据;
根据多个所述初始预测数据和预设测量数据在多个预设训练模型中选取其中一个预设训练模型作为目标训练模型。
5.根据权利要求4所述的制程设备的控制方法,其特征在于,所述根据多个所述初始预测数据和预设测量数据在多个预设训练模型中选取其中一个预设训练模型作为目标训练模型的步骤包括:
在多个所述初始预测数据中选取与所述预设测量数据匹配的初始预测数据,得到匹配预测数据;
将所述匹配预测数据对应的预设训练模型作为目标训练模型。
6.一种制程设备的控制装置,其特征在于,所述制程设备用于制备显示面板;所述装置包括:
第一训练模块,用于获取当前制程阶段的制程设备的第一制程参数,并对所述第一制程参数进行训练,得到第一预测数据;
判断模块,用于根据所述第一预测数据判断所述显示面板是否满足预设条件;
处理模块,用于当所述显示面板不满足预设条件时,则对所述制程设备或者所述显示面板进行异常处理。
7.根据权利要求6所述的制程设备的控制装置,其特征在于,所述判断模块,具体用于:
将所述第一预测数据与预设阈值进行比较;当所述第一预测数据超过所述预设阈值时,则确定所述显示面板不满足预设条件。
8.根据权利要求6所述的制程设备的控制装置,其特征在于,所述第一训练模块具体用于:
将当前制程阶段的制程设备的第一制程参数输入目标训练模型进行训练。
9.根据权利要求8所述的制程设备的控制装置,其特征在于,所述装置还包括:
获取模块,用于获取上一制程阶段中所述制程设备的初始制程参数;
第二训练模块,用于通过多个预设训练模型分别对所述初始制程参数进行训练,得到多个初始预测数据;
确定模块,用于根据多个所述初始预测数据和预设测量数据在多个预设训练模型中选取其中一个预设训练模型作为目标训练模型。
10.根据权利要求9所述的制程设备的控制装置,其特征在于,所述确定模块具体用于,
在多个所述初始预测数据中选取与所述预设测量数据匹配的初始预测数据,得到匹配预测数据;将所述匹配预测数据对应的预设训练模型作为目标训练模型。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造