[发明专利]基于交错拼接应用的CMOS成像系统有效

专利信息
申请号: 201911126411.4 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN110855864B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 余达;刘金国;韩诚山;薛旭成;姜肖楠;张艳鹏;许亮 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/232;H04N5/374
代理公司: 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 代理人: 朱红玲
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 交错 拼接 应用 cmos 成像 系统
【权利要求书】:

1.基于交错拼接应用的CMOS成像系统,包括相机控制器和n个成像组;每个成像组均包括422通信控制模块、时序驱动控制模块、数据整合及发送模块、数传接口模块和成像焦平面模块;所述422通信控制模块接收相机控制器发送命令,并返回相应的信息;时序驱动控制模块产生满足电压和电流要求的时序驱动信号;数据整合及发送模块将多通道的串行数据处理后,输出满足数传接口协议的数据;数传接口模块输出数传接口协议规定的信号;成像焦平面模块用于进行光电转换,同时产生成像焦平面模块的CMOS探测器所需的电压和偏置信号;其特征是:

所述CMOS成像系统的地面覆盖宽度SW与单片CMOS探测器的有效像元数nvalid_pix的关系为:

SW=[nvalid_pix×nchip-noverlap_pix×(nchip-1)]×GSD

式中,nchip为CMOS探测器的总片数,noverlap_pix为CMOS探测器的片间搭接像元数,nvalid_pix为单片CMOS探测器的有效像元数,GSD为地面像元分辨率;

CMOS探测器焦面板的长度fcontrol=2(nvalid_pix-noverlap_pix)×apix-lboard_gap

式中,apix为CMOS探测器的像元尺寸,lboard_gap为CMOS探测器焦面板之间的间隙;

所述CMOS探测器的管脚分布方式为:CMOS探测器的管脚排布上,在CMOS探测器中间无管脚的区域放置导热片,在线路板上的对应位置放置电源的滤波电容;在CMOS探测器的中间无管脚分布区域形成一个四层的空间立体结构:第一层为CMOS探测器,第二层为紧贴CMOS探测器的散热片;第三层为紧贴线路板焊接的滤波电容,第四层为线路板;要求中间放置导热片的未分布管脚的区域宽度为lblank_pin,所述lblank_pin≥5mm;在CMOS探测器的上端和下端均放置电源和偏置管脚。

2.根据权利要求1所述的基于交错拼接应用的CMOS成像系统,其特征在于:所述CMOS探测器的谱段分布设定为:全色谱段在探测器的一侧,多光谱谱段在CMOS探测器的其余位置。

3.根据权利要求1所述的基于交错拼接应用的CMOS成像系统,其特征在于:还包括对CMOS探测器进行封装;具体包括管脚分布区域,晶圆和多个滤波电容;所述晶圆与多个滤波电容和管脚分布区域的管脚通过连接线连接;

设定容值小于4.7uF偏置滤波电容采用单个瓷片电容,管脚不引出;

将多光谱谱段的相同功能的供电电源合并为一个;

所述晶圆上的每个电源管脚和地管脚之间添加容值在0.01uF-0.1uF的瓷片电容,每个电源再添加一只容值在1-4.7uF的瓷片电容。

4.根据权利要求1所述的基于交错拼接应用的CMOS成像系统,其特征在于:所述CMOS探测器的管脚数nchip_pin用下式表示为:

nchip_pin=ngnd_pin+npower_pin+nbias_pin+ndata_out_pin+ncontrol_pin+ncharge_transfer_pin+nspi_test_clock_pin

式中,ngnd_pin为探测器的地管脚数,要求模拟地、数字地、模数转换地和像素地各小于等于2个;npower_pin为探测器的电源管脚数,要求相同的模拟电源、数字电源和模数电源的管脚数小于等于2;

nbias_pin为探测器的偏置管脚数,所述探测器的偏置管脚数nbias_pin的值与偏置电容大于4.7uF的管脚数相等;ndata_out_pin为探测器输出数据的管脚数,ncontrol_pin为探测器的输入控制管脚数,ncharge_transfer_pin为探测器的输入电荷转移管脚数,nspi_test_clock_pin为探测器的spi接口、输入时钟和测试管脚数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911126411.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top