[发明专利]基于交错拼接应用的CMOS成像系统有效

专利信息
申请号: 201911126411.4 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN110855864B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 余达;刘金国;韩诚山;薛旭成;姜肖楠;张艳鹏;许亮 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: H04N5/225 分类号: H04N5/225;H04N5/232;H04N5/374
代理公司: 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 代理人: 朱红玲
地址: 130033 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 交错 拼接 应用 cmos 成像 系统
【说明书】:

基于交错拼接应用的CMOS成像系统,涉及CMOS成像技术领域,解决现有大幅宽的成像中,采用探测器拼接实现,导致焦面线路板长度方向受限,并且由于探测器中间没有位置摆放滤波电容,进而导致滤波电容距离管脚过远的问题,包括相机控制器和n个成像组;每个成像组均包括422通信控制模块、时序驱动控制模块、数据整合及发送模块、数传接口和成像焦面组;成像组内包含数传接口模块,成像焦平面模块,数据整合及发送模块,时序驱动模块和422通信控制模块;本发明的成像系统保证大幅面的CMOS成像稳定可靠;减小成像线路板的器件占用空间,提高滤波效果,从而提高成像性能。增加探测器的有效散热面积,减小温度变化,从而提高暗电流等成像参数的稳定性。

技术领域

本发明涉及CMOS成像技术领域,具体涉及一种航天应用的交错拼接应用的CMOS成像系统。

背景技术

在大幅宽的成像应用中,由于单片探测器的分辨率有限,通常采用交错拼接的方式来增加幅宽,两排探测器首尾相接。对于分辨率较小的探测器,为了避免在侧摆成像过程中各片探测器的图像拼接漏缝,通常要求上下两排的探测器重叠一定数量的像元,导致焦面线路板长度方向受限,长度接近或者稍长于探测器。对于CMOS探测器应用,由于多种功能集成在单个芯片内,若探测器中间没有位置摆放滤波电容,对于探测器前后两侧中部的电源和偏置管脚,就存在滤波电容距离管脚过远的问题。

发明内容

本发明为解决现有大幅宽的成像中,采用探测器拼接实现,导致焦面线路板长度方向受限,并且由于探测器中间没有位置摆放滤波电容,进而导致滤波电容距离管脚过远的问题,提供一种基于交错拼接应用的CMOS成像系统。

基于交错拼接应用的CMOS成像系统,包括相机控制器和n个成像组;每个成像组均包括422通信控制模块、时序驱动控制模块、数据整合及发送模块、数传接口模块和成像焦平面模块;422通信控制模块接收相机控制器发送命令,并返回相应的信息;时序驱动控制模块产生满足电压和电流要求的时序和驱动信号;数据整合及发送模块将多通道的串行数据调理后,输出满足数传接口协议的数据;数传接口模块输出数传接口协议规定的信号;成像焦平面模块用于进行光电转换,同时产生探测器所需的电压和偏置信号;

所述CMOS成像系统的地面覆盖宽度SW与单片CMOS探测器的有效像元数nvalid_pix的关系为:

SW=[nvalid_pix×nchip-noverlap_pix×(nchip-1)]×GSD

式中,nchip为CMOS探测器的总片数,noverlap_pix为CMOS探测器的片间搭接像元数,nvalid_pix为单片CMOS探测器的有效像元数,GSD为地面像元分辨率;

CMOS探测器焦面板的长度fcontrol=2(nvalid_pix-noverlap_pix)×apix-lboard_gap

式中,apix为CMOS探测器的像元尺寸,lboard_gap为CMOS探测器焦面板之间的间隙。

本发明的有益效果:本发明所述的基于交错拼接应用的CMOS成像系统,保证大幅面的CMOS成像稳定可靠;具体优点为:

1、减小成像线路板的器件占用空间,提高滤波效果,从而提高成像性能。

2、增加探测器的有效散热面积,减小温度变化,从而提高暗电流等成像参数的稳定性。

附图说明

图1为本发明所述的基于交错拼接应用的CMOS成像系统的结构框图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911126411.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top