[发明专利]一种离子束入射角度确定方法及装置

权利要求书

1.一种离子束入射角度确定方法，其特征在于，所述方法包括：

获取放置在工作台上的待镀膜工件的深度图像及彩色图像；

对所述彩色图像进行边缘检测，确定所述彩色图像中的边缘像素点；

确定所述边缘像素点在所述深度图像中对应的像素值；

根据所述边缘像素点对应的像素值、靶材与水平方向之间的夹角及所述待镀膜工件的尺寸，确定所述离子束入射角度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述确定所述边缘像素点在所述深度图像中对应的像素值的步骤之前，所述方法还包括：

对所述深度图像进行二值化处理，得到二值化处理后的深度图像；

标记二值化处理后的深度图像中像素值为0的像素点，作为目标像素点；

将所述目标像素点周围预设数量像素点的有效像素值的平均值，确定为该目标像素点的像素值，得到处理后的深度图像，其中，所述有效像素值为非0的像素值。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述确定所述边缘像素点在所述深度图像中对应的像素值的步骤之前，所述方法还包括：

对所述深度图像进行去噪处理，得到去噪处理后的深度图像。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述彩色图像的图像特征进行边缘检测，确定所述彩色图像的边缘像素点的步骤，包括：

将所述彩色图像输入边缘检测模型，根据所述彩色图像的图像特征确定所述彩色图像中的边缘像素点，其中，所述边缘检测模型包括所述彩色图像的图像特征及所述边缘像素点之间的对应关系。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述确定所述边缘像素点在所述深度图像中对应的像素值的步骤，包括：

确定每个所述边缘像素点的预设邻域所包括的像素点，作为参考像素点，其中，所述预设邻域为以边缘像素点为中心的预设大小的正方形区域；

基于每个所述边缘像素点与对应的所述参考像素点之间的亮度差异、颜色值差异以及距离，确定该边缘像素点与对应的所述参考像素点之间的总差异；

基于每个边缘像素对应的所述总差异以及所述参考像素点的像素值，确定每个边缘像素点对应的像素值。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述基于每个所述边缘像素点与对应的所述参考像素点之间的亮度差异、颜色值差异以及距离，确定该边缘像素点与对应的所述参考像素点之间的总差异的步骤，包括：

根据公式M_P＝M_L*M_C*M_D*B_O，计算所述参考像素点与对应的边缘像素点之间的总差异；

其中，O为边缘像素点，P为边缘像素点O的预设邻域中的参考像素点，M_P表示参考像素点P与边缘像素点O之间的总差异，M_L为亮度差异矩阵，其中的元素为参考像素点P与边缘像素点O之间的亮度差，M_C为颜色值差异矩阵，其中的元素为参考像素点P与边缘像素点O之间的颜色值差，M_D为距离矩阵，其中的元素为参考像素点P与边缘像素点O之间的距离，B_O为筛选矩阵，其中对应于边缘像素点的元素记为0，对应于非边缘像素点的元素记为1。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述亮度差异矩阵的确定方式，包括：

基于所述彩色图像中像素点的亮度，确定所述彩色图像的亮度梯度；

根据所述亮度梯度和所述边缘像素点及对应的所述参考像素点在所述彩色图像坐标系中的坐标，确定所述亮度差异矩阵。