[发明专利]一种用于电子屏幕的自洁疏水膜层的制备方法

权利要求书

1.一种用于电子屏幕的自洁疏水膜层的制备方法，其特征在于：该方法的操作步骤为：

步骤1，对玻璃基底进行清洗；

步骤2，将清洗后的玻璃基底使用氮气吹干，然后放入原子层沉积仪的沉积腔体内，将沉积腔体内抽至5×10^-3Torr，再通入载气至腔体压力为0.15Torr，沉积腔体内温度为150℃；然后在玻璃基底表面的进行膜层的原子层周期沉积生长，获得镀有金属氧化物膜层的玻璃；

所述的步骤2在玻璃基底表面的进行膜层的原子层周期沉积生长的具体操作过程为：1)向原子层沉积仪的沉积腔体内以脉冲形式注入钛源，脉冲时间t₁为0.06s；2)打开进气阀、排气阀，利用氮气进行吹扫，吹扫时间t₂为60s；3)向原子层沉积仪的沉积腔体内以脉冲形式注入水源，脉冲时间t₃为0.02s；4)打开进气阀、排气阀，利用氮气进行吹扫，吹扫时间t₄为40s；5)重复执行上述1)～4)生长周期100次；6)向原子层沉积仪的沉积腔体内以脉冲形式注入铝源，脉冲时间t₆为0.02s；7)打开进气阀、排气阀，利用氮气进行吹扫，吹扫时间t₇为30s；8)向原子层沉积仪的沉积腔体内以脉冲形式注入水源，脉冲时间t₈为0.015s；9)打开进气阀、排气阀，利用氮气进行吹扫，吹扫时间t₉为30s；10)重复执行上述6)～9)生长周期100次；11)重复执行上述1)～10)生长周期3次，获得镀有Al₂O₃和TiO₂复合膜层的玻璃；

所述的钛源为四异丙醇钛，铝源为三甲基铝，水源为去离子水；

获得的Al₂O₃和TiO₂复合膜层的微观形貌呈现纳米岛状、整体致密均匀且表面粗糙度较大，经计算其方均根粗糙度为5.73nm，接触角为132.5°。

2.根据权利要求1所述的一种用于电子屏幕的自洁疏水膜层的制备方法，其特征在于：所述的金属氧化物膜层厚度为50nm。

3.根据权利要求1所述的一种用于电子屏幕的自洁疏水膜层的制备方法，其特征在于：所述的步骤2中载气为质量分数为99.99％的氮气。

4.根据权利要求1所述的一种用于电子屏幕的自洁疏水膜层的制备方法，其特征在于：所述的玻璃基底尺寸为38×12mm的长方形。