[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

平坦化层，设于所述衬底基板的一侧；所述平坦化层设置有阵列分布的多个凹槽；

像素电极层，设于所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧；所述像素电极层包括与多个所述凹槽一一对应设置的多个像素电极，任一所述像素电极设置有发光区域；任一所述像素电极的发光区域在所述衬底基板上的正投影，位于对应的所述凹槽的槽底在所述衬底基板的正投影内；

像素定义层，设于所述像素电极层远离所述衬底基板的一侧，且暴露各个所述发光区域；

有机发光层，设于所述像素电极层远离所述衬底基板的一侧，且覆盖各个所述像素电极的发光区域；

公共电极层，设于所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧，且覆盖所述有机发光层；

堤坝层，设于所述公共电极层远离所述衬底基板的一侧；所述堤坝层在所述衬底基板上的正投影，与各个所述凹槽在衬底基板上的正投影完全不重合；

量子点层，覆盖至少部分被所述堤坝层暴露的所述公共电极层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿垂直于所述衬底基板所在平面的方向，所述凹槽的尺寸大于2微米。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述堤坝层的厚度不大于6微米。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述量子点层的厚度大于8微米。

5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，任一所述发光区域在所述衬底基板上的正投影中的任意一点，与所述堤坝层在所述衬底基板上的正投影中的任意一点之间的距离，不小于3微米。

6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板的一侧形成平坦化层，且所述平坦化层设置有阵列分布的多个凹槽；

在所述平坦化层远离所述衬底基板的一侧形成像素电极层，所述像素电极层包括与多个所述凹槽一一对应设置的多个像素电极，任一所述像素电极设置有发光区域；任一所述像素电极的发光区域在所述衬底基板上的正投影，位于对应的所述凹槽的槽底在所述衬底基板的正投影内；

在所述像素电极层远离所述衬底基板的一侧形成像素定义层，所述像素定义层暴露各个所述发光区域；

在所述像素电极层远离所述衬底基板的一侧形成有机发光层，所述有机发光层覆盖各个所述像素电极的发光区域；

在所述有机发光层远离所述衬底基板的一侧形成公共电极层，所述公共电极层覆盖所述有机发光层；

在所述公共电极层远离所述衬底基板的一侧形成堤坝层，所述堤坝层在所述衬底基板上的正投影，与各个所述凹槽在衬底基板上的正投影完全不重合；

形成量子点层，所述量子点层覆盖至少部分被所述堤坝层暴露的所述公共电极层。

7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1～5任一项所述的阵列基板。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7所述的显示面板。