[发明专利]一种无需激活的钛基吸氢材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911139755.9 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN110863174A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 史志胜;熊玉华;崔建东;郭德宇;吴华亭 申请(专利权)人: 有研工程技术研究院有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/16;C23C14/35
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 黄家俊
地址: 101407 北京市怀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 无需 激活 钛基吸氢 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种无需激活的钛基吸氢材料,其特征在于,包括吸气层、过渡层和保护层,所述过渡层和保护层依次对称分布在吸气层两侧;吸气层中金属Ti箔的纯度为99.9%以上;过渡层中的Ti的纯度为99.995%以上;保护层为Pd、Ni和Pd-Ag合金中任意一种,其中Pd的纯度为99.95%以上,Ni的纯度为99.995%以上,Pd-Ag合金中Ag的重量百分比为25%。

2.根据权利要求1所述的无需激活的钛基吸氢材料,其特征在于,所述吸气层厚度为100~500μm;所述过渡层为致密结构,厚度为100nm~1μm;所述保护层为致密结构,厚度为50~500nm。

3.权利要求1或2所述无需激活的钛基吸氢材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)分别用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗高纯Ti箔,用高纯氩气吹干;

2)通过离子溅射法将Ti箔表面的氧化层去除,露出Ti箔新鲜金属表面,作为吸气层;

3)在吸气层上磁控溅射沉积Ti薄膜作为过渡层;

4)在过渡层上磁控溅射沉积Pd薄膜、Ni薄膜或Pd-Ag合金膜作为保护层;

5)将钛箔翻面,重复步骤2)~步骤4)。

4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述步骤2)中镀膜腔室的背底真空抽至5.0×10-6~5.0×10-4Pa,然后向腔室内通入高纯氩气,用离子轰击Ti箔表面。

5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述步骤3)中溅射气压为0.2~1.0Pa,溅射功率为100~300W,靶基距为5~8cm,沉积时间为3~30min。

6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述步骤4)中溅射气压为0.2~1.0Pa,溅射功率为50~300W,靶基距为5~8cm,沉积时间为30~600s。

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