[发明专利]一种无需激活的钛基吸氢材料及其制备方法

权利要求书

1.一种无需激活的钛基吸氢材料，其特征在于，包括吸气层、过渡层和保护层，所述过渡层和保护层依次对称分布在吸气层两侧；吸气层中金属Ti箔的纯度为99.9％以上；过渡层中的Ti的纯度为99.995％以上；保护层为Pd、Ni和Pd-Ag合金中任意一种，其中Pd的纯度为99.95％以上，Ni的纯度为99.995％以上，Pd-Ag合金中Ag的重量百分比为25％。

2.根据权利要求1所述的无需激活的钛基吸氢材料，其特征在于，所述吸气层厚度为100～500μm；所述过渡层为致密结构，厚度为100nm～1μm；所述保护层为致密结构，厚度为50～500nm。

3.权利要求1或2所述无需激活的钛基吸氢材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)分别用丙酮、无水乙醇、去离子水清洗高纯Ti箔，用高纯氩气吹干；

2)通过离子溅射法将Ti箔表面的氧化层去除，露出Ti箔新鲜金属表面，作为吸气层；

3)在吸气层上磁控溅射沉积Ti薄膜作为过渡层；

4)在过渡层上磁控溅射沉积Pd薄膜、Ni薄膜或Pd-Ag合金膜作为保护层；

5)将钛箔翻面，重复步骤2)～步骤4)。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤2)中镀膜腔室的背底真空抽至5.0×10^-6～5.0×10^-4Pa，然后向腔室内通入高纯氩气，用离子轰击Ti箔表面。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤3)中溅射气压为0.2～1.0Pa，溅射功率为100～300W，靶基距为5～8cm，沉积时间为3～30min。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤4)中溅射气压为0.2～1.0Pa，溅射功率为50～300W，靶基距为5～8cm，沉积时间为30～600s。