[发明专利]掩模框架组件

权利要求书

1.一种掩模框架组件，所述掩模框架组件包括：

平台，包括具有顶表面的座部分；

框架，位于所述座部分上，并且具有与所述座部分的所述顶表面接触的底表面，所述座部分的所述顶表面和所述框架的所述底表面中的至少一个是不平坦的表面；以及

掩模，位于所述框架上。

2.根据权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述不平坦的表面是激光织构表面。

3.根据权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述不平坦的表面是等离子体渗氮表面。

4.根据权利要求1所述的掩模框架组件，所述掩模框架组件还包括位于所述框架与所述掩模之间的杆部。

5.根据权利要求4所述的掩模框架组件，其中，所述杆部包括在第一方向上延伸的第一杆。

6.根据权利要求5所述的掩模框架组件，其中，所述第一杆的热变形力小于或等于所述座部分与所述框架之间的摩擦力。

7.根据权利要求5所述的掩模框架组件，其中，所述杆部还包括在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的第二杆。

8.根据权利要求7所述的掩模框架组件，其中，所述第二杆的热变形力小于或等于所述座部分与所述框架之间的摩擦力。

9.根据权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述不平坦的表面平行于所述掩模的底表面。

10.根据权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述座部分与所述底表面之间的静摩擦系数是1或更大。