[发明专利]掩模框架组件

说明书

提供了一种掩模框架组件。所述掩模框架组件包括：平台，提供有具有顶表面的座部分；框架，位于座部分上，并具有与座部分的顶表面接触的底表面；以及掩模，位于框架上。座部分的顶表面和框架的底表面中的至少一个是不平坦的表面。

本申请要求于2018年11月28日提交到韩国知识产权局的名称为“Mask FrameAssembly and Method for Manufacturing Mask Frame Assembly(掩模框架组件和用于制造掩模框架组件的方法)”的第10-2018-0149513号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

在这里，本公开涉及一种掩模框架组件以及一种用于制造该掩模框架组件的方法。

背景技术

通常，在有机发光显示装置中，有机层和/或电极通过真空沉积法形成。由于有机发光显示装置在分辨率上的提高，所以在用于制造有机发光显示装置的沉积工艺中使用的掩模中的开口在尺寸和其间的间距上减小。

在沉积工艺期间掩模可能热膨胀和/或由于其自身重量变形。因此，可能发生阴影效应。

发明内容

实施例提供了一种掩模框架组件，所述掩模框架组件包括：平台，具有带有顶表面的座部分；框架，位于座部分上，并具有接触座部分的顶表面的底表面；掩模，位于框架上。座部分的顶表面和框架的底表面中的至少一个是不平坦的表面。

在实施例中，不平坦的表面可以是激光织构表面。

在实施例中，不平坦的表面可以是等离子体渗氮表面。

在实施例中，掩模框架组件还可以包括在框架与掩模之间的杆部。

在实施例中，杆部可以包括在第一方向上延伸的第一杆。

在实施例中，第一杆的热变形力可以小于或等于座部分与框架之间的摩擦力。

在实施例中，杆部还可以包括在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第二杆。

在实施例中，第二杆的热变形力可以小于或等于座部分与框架之间的摩擦力。

在实施例中，框架的底表面可以平行于掩模的底表面。

在实施例中，座部分与框架的底表面之间的静摩擦系数可以是1或更大。

附图说明

通过参照附图详细描述示例性实施例，特征对于本领域技术人员将变得明显，在附图中：

图1示出了根据实施例的掩模框架组件的透视图；

图2示出了根据实施例的掩模框架组件的分解透视图；

图3示出了根据实施例的掩模框架组件的剖视图；

图4示出了根据实施例的图3的区域AA'的放大剖视图；

图5示出了根据实施例的制造掩模框架组件的方法的流程图；

图6示出了根据实施例的形成图5中的不平坦的底表面的步骤的透视图；

图7示出了通过使用根据实施例的掩模框架组件将沉积层沉积在基底上的工艺的剖视图；

图8示出了通过使用根据实施例的掩模框架组件将沉积层沉积在基底上的工艺的剖视图；

图9示出了通过使用根据实施例的掩模框架组件将沉积层沉积在基底上的工艺的剖视图；

图10示出了根据实施例的掩模框架组件的分解透视图；以及

图11示出了包括通过使用根据实施例的掩模框架组件沉积的发光层的有机发光显示装置的剖视图。