[发明专利]一种适用于厚铜箔精密线路的制造方法在审

专利信息
申请号: 201911143333.9 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN112234025A 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 黄春生;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 申请(专利权)人: 江苏上达电子有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人: 谢肖雄
地址: 221300 江苏省徐州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 铜箔 精密 线路 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种适用于厚铜箔精密线路的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1、首先,在绝缘基材上层压一层厚铜;

S2、然后在铜箔上涂布一层光刻胶或辊压一层光刻胶;

S3、之后进行曝光、显影处理,去除不需要的光刻胶,得到光刻胶图案;

S4、然后使用硫酸双氧水体系的蚀刻液对线路图案进行初次蚀刻,得到线路图案;

S5、当蚀刻进行一段时间后,使用盐酸氯化铜体系的蚀刻液对线路图案进行二次蚀刻,完成线路图案;

S6、然后使用碱性的药水去除剩余的光刻胶,即可得到最终的线路图案;

S7、最后,在线路图案上印刷一层阻焊剂,用以保护线路图案。

2.根据权利要求1所述的一种适用于厚铜箔精密线路的制造方法,其特征在于:所述铜厚在12μm以上。

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