[发明专利]掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置

权利要求书

1.一种掩模对准系统，用于实现掩模板及工件台的对准，其特征在于，包括：

照明组件，提供对准光束照射至所述掩模板上，所述掩模板上设置掩模对准标记组合，所述掩模对准标记组合在X方向和Y方向均包括两组对准标记，其中，X方向上的两组对准标记关于所述掩模板的中心对称设置，Y方向上的两组对准标记关于所述掩模板的中心对称设置；

投影组件，位于所述掩模板下方，用于将所述掩模对准标记组合成像；

基准板，位于所述工件台上，用于承载对应所述掩模对准标记组合的基准参考标记组合；

辐射探测组件，位于所述基准板下方，用于接收依次经过所述掩模对准标记组合、投影组件及基准参考标记组合的对准光束，并得到对应每组对准标记的对准位置信息；

计算组件，根据所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息；

在测量所述基准板的位姿信息之前，利用所述辐射探测组件多次进行探测，以得到对应X方向上的每组对准标记的多个对准位置信息(x₁₁，z₁₁)…(x_1i，z_1i)和(x₂₁，z₂₁)…(x_2i，z_2i)及对应Y方向上的每组对准标记的多个对准位置信息(y₁₁，z₃₁)…(y_1i，z_3i)和(y₂₁，z₄₁)…(y_2i，z_4i)，其中，_i大于或等于2；

根据对应X方向上的每组对准标记的多个对准位置信息及对应Y方向上的每组对准标记的多个对准位置信息得到所述辐射探测组件的重复度指标，并利用所述辐射探测组件探测的信息及所述重复度指标得到每组对准标记的对准位置信息。

2.如权利要求1所述的掩模对准系统，其特征在于，每组所述对准标记均为一个光栅，其中，在X方向上的两个光栅沿X方向延伸，在Y方向上的两个光栅沿Y方向延伸。

3.如权利要求1或2所述的掩模对准系统，其特征在于，所述掩模对准标记组合还包括一归一化标记，所述归一化标记位于所述掩模板的中心。

4.如权利要求1所述的掩模对准系统，其特征在于，所述基准板的位姿信息包括沿X方向、Y方向及Z方向的位置信息和绕X方向、Y方向及Z方向旋转的姿态信息。

5.一种光刻装置，其特征在于，包括如权利要求1-4中任一项所述的掩模对准系统。

6.一种利用如权利要求1-4中任一项所述的掩模对准系统进行掩模对准的方法，其特征在于，包括：

照明组件发出对准光束照射至掩模板的掩模对准标记组合上，并被投影组件投影至位于基准板上的基准参考标记组合上；

移动工件台使辐射探测组件接收对准光束，并得到对应每组对准标记的对准位置信息；

计算组件根据多个所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息；

在测量所述基准板的位姿信息之前，所述掩模对准方法还包括：

利用所述辐射探测组件多次进行探测，以得到对应X方向上的每组对准标记的多个对准位置信息(x₁₁，z₁₁)…(x_1i，z_1i)和(x₂₁，z₂₁)…(x_2i，z_2i)及对应Y方向上的每组对准标记的多个对准位置信息(y₁₁，z₃₁)…(y_1i，z_3i)和(y₂₁，z₄₁)…(y_2i，z_4i)，其中，_i大于或等于2；

根据对应X方向上的每组对准标记的多个对准位置信息及对应Y方向上的每组对准标记的多个对准位置信息得到所述辐射探测组件的重复度指标，并利用所述辐射探测组件探测的信息及所述重复度指标得到每组对准标记的对准位置信息。