[发明专利]掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置

说明书

本发明提供了一种掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置，掩模板的X方向和Y方向均包括两组对准标记，X方向上的两组对准标记及Y方向上的两组对准标记均关于掩模板的中心对称设置，在进行掩模对准时，辐射探测组件接收依次经过掩模对准标记组合、投影组件及基准参考标记组合的对准光束，并得到对应每组对准标记的对准位置信息，计算组件可以根据多个所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息，而所述基准板的位姿信息能够更准确的表达所述基准板与所述掩模板的相对位置关系。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置。

背景技术

掩模对准系统作为光刻机的关键分系统，其功能是测量掩模板上的掩模对准标记组合相对于基准板上的基准参考标记组合的相对位置，进而得到基准板与掩模板的相对位置。现有掩模板上的掩模对准标记组合布局方式通常只能测量到基准板的位置信息(x，y，z)，而无法测量基准板的姿态信息(Rx，Ry，Rz)，所以并不能准确的表达出基准板与掩模板的位置关系。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模对准标记组合、掩模对准系统及对准方法、光刻装置，不仅能够测量基准板的位置信息，还能够测量基准板的姿态信息，从而更准确的表达基准板与掩模板的位置关系。

为了达到上述目的，本发明提供了一种掩模对准标记组合，设置于一掩模板上用于掩模对准，在X方向和Y方向均包括两组对准标记，其中，X方向上的两组对准标记关于所述掩模板的中心对称设置，Y方向上的两组对准标记关于所述掩模板的中心对称设置。

可选的，每组所述对准标记均为一个光栅，其中，在X方向上的两个光栅沿X方向延伸，在Y方向上的两个光栅沿Y方向延伸。

可选的，所述掩模对准标记组合还包括一归一化标记，所述归一化标记位于所述掩模板的中心。

本发明还提供了一种掩模对准系统，用于实现掩模板及工件台的对准，包括：

照明组件，提供对准光束照射至所述掩模板上，所述掩模板上设置有所述掩模对准标记组合；

投影组件，位于所述掩模板下方，用于将所述掩模对准标记组合成像；

基准板，位于所述工件台上，用于承载对应所述掩模对准标记组合的基准参考标记组合；

辐射探测组件，位于所述基准板下方，用于接收依次经过所述掩模对准标记组合、投影组件及基准参考标记组合的对准光束，并得到对应每组对准标记的对准位置信息；

计算组件，根据多个所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息。

可选的，所述基准板的位姿信息包括沿X方向、Y方向及Z方向的位置信息和绕X方向、Y方向及Z方向旋转的姿态信息。

本发明还提供了一种光刻装置，包括所述掩模对准系统。

本发明还提供了一种利用所述掩模对准系统进行掩模对准的方法，包括：

照明组件发出对准光束照射至掩模板的掩模对准标记组合上，并被投影组件投影至位于基准板上的基准参考标记组合上；

移动工件台使辐射探测组件接收对准光束，并得到对应每组对准标记的对准位置信息；

计算组件根据多个所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息。

可选的，所述基准板的位姿信息包括沿X方向、Y方向及Z方向的位置信息(x，y，z)和绕X方向、Y方向及Z方向旋转的姿态信息(Rx，Ry，Rz)，所述计算组件根据多个所述对准位置信息得到所述基准板的位姿信息的步骤包括：