[发明专利]一种高性能耐磨釉料及其制备方法

说明书

本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种高性能耐磨釉料及其制备方法，所述高性能耐磨釉料，按照原料重量百分比，其原料由生釉料粉65‑75％和熔块粉25‑35％组成；按照重量百分比，所述生釉料粉包括以下原料：钠长石30‑40％，烧滑石12‑16％，高岭土4％‑10％，方解石10‑15％，氧化锌2‑8％，硅灰石10‑15％，刚玉10‑20％和碳酸钡2‑8％。本发明的目的在于提出一种高性能耐磨釉料及其制备方法，通过该釉料制得的抛釉砖平整度满足生产工艺要求的同时，解决了釉层透明度和耐磨性能的矛盾，制成的抛釉砖耐磨度有极大提升，平整度高，发色好。

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种高性能耐磨釉料及其制备方法。

背景技术

陶瓷抛釉砖集结了瓷质釉面砖和抛光砖的优点,不但图案形象丰富,而且表面光滑亮丽,其面世初期，凭借产品花色图案丰富和纹理层次清晰深受消费者欢迎。但随着时间的推移，抛釉砖的一些弊端也逐渐凸显，其中最为突出的则是产品耐磨度低，导致表面易磨花。抛釉砖釉料耐磨性是困恼业界的一个较大难题。在使用抛釉砖作为地面装饰材料时，对釉料的耐磨性能具有较高要求，耐磨性能低的釉料制备出来的抛釉砖很容易磨花，耐磨度不佳的产品使用时间长了，光泽度下降非常明显，表面暗淡无光，严重影响美观。目前，市面上抛釉类产品抛光后表面硬度在莫氏硬度4以下，耐磨性等级普遍在3级750转，耐磨性很难满足消费者的要求。制备高透明、耐磨、防污的高性能耐磨抛釉砖产品一直是行业不可逾越的技术瓶颈。

发明内容

针对背景技术提出的问题，本发明的目的在于提出一种高性能耐磨釉料，通过该釉料制得的抛釉砖平整度满足生产工艺要求的同时，解决了釉层透明度和耐磨性能的矛盾，制成的抛釉砖耐磨度有极大提升，平整度高，发色好。

本发明的另一目的在于提出上述高性能耐磨釉料的制备方法，制备获得的釉料膨胀系数与坯体匹配度高，应用于抛釉砖生产中，其作为面釉布施，高温烧结后平整度符合陶瓷墙地砖国家标准，可以不用调整砖的生产工艺，实现高效匹配生产系统。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种高性能耐磨釉料，按照原料重量百分比，其原料由生釉料粉65-75％和熔块粉25-35％组成；

按照原料重量百分比，所述生釉料粉包括以下原料：钠长石30-40％，烧滑石12-16％，高岭土4％-10％，方解石10-15％，氧化锌2-8％，硅灰石10-15％，刚玉10-20％和碳酸钡2-8％。

更进一步的说明，所述熔块粉的原料包括高岭土和烧滑石，按照总原料的重量百分比计算，其中所述高岭土的添加量为40-50％，所述烧滑石的添加量为20-30％。

更进一步的说明，按照原料重量百分比，所述熔块粉包括以下原料组分：高岭土40-48％，烧滑石20-30％，石英粉10-15％，氧化锌2-5％，硅灰石5-10％，钠长石1-4％和刚玉1-4％。

更进一步的说明，所述熔块粉的太阳光直接透射比为13％～16％，莫氏硬度为5～6级，耐磨度6000转大于等于4级。

更进一步的说明，按照重量百分比，所述生釉料粉的化学组成为40-45％SiO₂，18-22％Al₂O₃,0.1-1％Fe₂O₃，0.05-0.1％TiO₂,10-12％CaO，3-6％MgO，0-1％K₂O，3-5％Na₂O,5-8％ZnO，4-6％BaO和3-6％IL。