[发明专利]成膜方法及成膜装置在审

专利信息
申请号: 201911146340.4 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN111218659A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 能势正章 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: C23C14/46 分类号: C23C14/46;C23C14/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 方法 装置
【说明书】:

本发明的课题在于提供用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度和材料比的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法是在基板上通过从离子源所照射的离子束来进行溅射成膜的成膜方法,其特征在于,在上述基板与上述离子源之间配置溅射靶,对于该溅射靶的与上述基板对置的面的相反侧的面,通过离子束来进行溅射,在该基板上成膜。

技术领域

本发明涉及成膜方法及成膜装置,更详细地说,涉及用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度及材料比的成膜方法及成膜装置。

背景技术

为了援助车辆的驾驶,进行了将车载照相机搭载于车辆。更具体地,将拍摄车辆的后方、侧方的照相机搭载于汽车的车体,通过将采用该照相机拍摄的影像显示在驾驶者可看到的位置,减少死角,由此能够有助于安全驾驶。

多数情况是将车载照相机安装于车外,对于使用的透镜,对于耐环境性的保证要求严格。例如,在对透镜的盐水喷雾试验中,如果通过位于透镜表面的防反射层的成分即SiO2在盐水中溶解,光反射率变化,则成为重影(ゴースト)、眩光的发生的原因。

因此,对于透镜最上层,优选形成以低折射率材料作为主成分、对下层的光反射率影响小的保护膜,如果是20nm以上的膜厚比较厚的保护膜,则防反射膜的光反射率变化,因此希望膜厚尽可能薄,可能的话,希望形成膜厚为15nm以下、优选10nm以下的保护膜。

其中,作为薄且均质的保护膜的成膜手段,已知同时应用蒸镀法和离子束溅射法的技术(例如参照专利文献1。)、采用离子辅助沉积(Ion Assisted Deposition)(以下也简称为“IAD”。)法的成膜技术(例如参照专利文献2和专利文献3。)

上述IAD法作为用于在成膜中使离子具有的高动能发挥作用而形成致密的膜、或提高膜与基材的密合力的方法来使用,如果应用于上述保护膜所要求的极薄的膜形成,在装置内周向的膜厚没有变得均匀。另外,在使保护膜材料成为混合物的情况下,产生限定于蒸汽压接近的材料的问题,以所期望的材料比、膜厚形成保护膜困难。

因此,在IAD法中,未能确保车载用途等的室外透镜所需的耐久性(可靠性)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2002-258038号公报

专利文献2:日本特开2003-221663号公报

专利文献3:国际公开第2015/030015号

发明内容

发明要解决的课题

本发明鉴于上述问题·状况而完成,其解决课题在于提供用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度及材料比的成膜方法及成膜装置。

用于解决课题的手段

本发明人为了解决上述课题,在对上述问题的原因等研究的过程中,发现:在基板上通过从离子源所照射的离子束来进行溅射成膜的成膜方法中,在上述基板与上述离子源之间具有溅射靶、对该溅射靶的特定的面进行溅射、在该基板上成膜,由此得到用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度和材料比的成膜方法及成膜装置。

即,本发明涉及的上述课题通过以下的手段而得以解决。

1.成膜方法,是在基板上通过从离子源所照射的离子束来进行溅射成膜的成膜方法,其特征在于,在上述基板与上述离子源之间配置溅射靶、对该溅射靶的与上述基板对置的面的相反侧的面通过离子束来溅射、在该基板上成膜。

2.第1项所述的成膜方法,其特征在于,上述溅射成膜产生的成膜速度为10pm/秒以下。

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