[发明专利]基于表面配体控制的钙钛矿发光二极管器件及其制备方法在审
申请号: | 201911156849.7 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN110867532A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 廖良生;沈万姗;苑帅;田起生 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 王玉仙 |
地址: | 215168 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 表面 控制 钙钛矿 发光二极管 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种钙钛矿发光二极管器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将空穴注入层材料的有机溶液涂覆至导电基底表面,在100-110℃下退火后,形成空穴注入层;所述空穴注入层材料为聚合物;
(2)将溴化铯、溴化铅和苯乙基溴化胺在3-(癸基二甲基铵)丙烷-1-磺酸内盐表面活性剂的作用下溶于有机溶剂,得到钙钛矿前驱体溶液,将所述钙钛矿前驱体溶液涂覆至所述空穴注入层表面,并在80-100℃退火后得到钙钛矿薄膜;
(3)采用烷基胺有机溶液处理所述钙钛矿薄膜的表面,形成发光层;
(4)在所述发光层表面依次制备电子传输层、电子注入层和金属阴极电极,得到所述钙钛矿发光二极管器件。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(1)中,所述空穴注入层材料为聚(9-乙烯咔唑)或三氧化钼。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(1)中,采用旋涂法进行涂覆,旋涂速度为3500-4500rpm,旋涂时间为40-60s。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(1)中,所述空穴注入层材料的有机溶液的浓度为6-8mg/mL。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(2)中,所述溴化铯、溴化铅、苯乙基溴化胺和3-(癸基二甲基铵)丙烷-1-磺酸内盐的摩尔比为1:1:0.4:0.05。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(2)中,采用旋涂法进行涂覆,旋涂速度为3000-3500rpm,旋涂时间为40-60s。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(3)中,烷基胺为辛胺、乙胺和正己胺中的一种或几种。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(3)中,所述烷基胺有机溶液的浓度为0.4-0.6μL/mL。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:在步骤(4)中,所述步骤(5)中所述电子传输层为1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯、1,3,5-三[(3-吡啶基)-3-苯基]苯和氧化锌中的一种或几种;所述电子注入层为8-羟基喹啉-锂和/或四(8-羟基喹啉)硼锂;所述金属阴极电极为铝或银。
10.一种权利要求1-9中任一项所述的制备方法所制备的钙钛矿发光二极管器件,其特征在于:包括依次设置的导电基底、空穴注入层、发光层、电子传输层、电子注入层和金属阴极电极,所述空穴注入层的厚度为20-40nm,所述发光层的厚度为20-30nm,所述电子传输层的厚度为30-40nm,所述电子注入层的厚度为2-5nm,所述金属阴极电极的厚度为80-100nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择