[发明专利]一种全抛釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法

权利要求书

1.一种全抛釉，其特征在于，包括：高温A釉和低温B釉，且所述高温A釉和低温B釉的质量比之和为1；其中，所述高温A釉以质量分数计，包括高岭土6份、TH-1236熔块33份、1212熔块23份、石英粉12份、方解石16份、硅灰石7份、氧化锌3份；所述低温B釉以质量分数计，包括高岭土6份、TH-1236熔块12份、1212熔块45份、石英粉6份、方解石20份、硅灰石7份、氧化锌4份；

所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计，包括：SiO₂ 49.94%，Al₂O₃ 19.88%，Fe₂O₃ 0.13%，CaO 8.40%，MgO 6.23%，K₂O 0.34%，Na₂O 3.16%，ZnO 2.21%，B₂O₃ 0.79%，BaO4.49%，烧失量4.43%；

所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计，包括：SiO₂ 58.22%，Al₂O₃ 7.51%，Fe₂O₃0.12%，CaO 9.82%，MgO 1.02%，K₂O 4.48%，Na₂O 0.65%，ZnO 15.00%，B₂O₃ 1.96%，BaO0.07%，烧失量1.15%；

通过控制所述高温A釉和低温B釉组分比例，进而调节所述全抛釉的熔融温度，根据窑炉温度调整所述全抛釉中的高温A釉和低温B釉组分比例，当窑炉温度上升时，加大配方A的加入比例；当窑炉温度下降时，加大配方B 的加入比例。

2.根据权利要求1所述的全抛釉，其特征在于，所述全抛釉以质量百分数计，包括：高温A釉80%，低温B釉20%。

3.一种如权利要求1-2任一项所述的全抛釉的制备方法，其特征在于，称取高温A釉和低温B釉原料，并控制所述高温A釉和低温B釉重量比为80%：20%；并加入原料重量的CMC0.15%、三聚磷酸钠 0.5%和防腐剂 0.05%；并按重量比为料：球：水=1:2:0.4，将球磨后的釉浆过325目筛，且筛余为0.2%-0.4%；

所述高温A釉以质量分数计，包括高岭土6份、TH-1236熔块33份、1212熔块23份、石英粉12份、方解石16份、硅灰石7份、氧化锌3份；所述低温B釉以质量分数计，包括高岭土6份、TH-1236熔块12份、1212熔块45份、石英粉6份、方解石20份、硅灰石7份、氧化锌4份；所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计，包括：SiO₂ 49.94%，Al₂O₃ 19.88%，Fe₂O₃ 0.13%，CaO 8.40%，MgO 6.23%，K₂O 0.34%，Na₂O 3.16%，ZnO 2.21%，B₂O₃ 0.79%，BaO 4.49%，烧失量4.43%；所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计，包括：SiO₂ 58.22%，Al₂O₃ 7.51%，Fe₂O₃0.12%，CaO 9.82%，MgO 1.02%，K₂O 4.48%，Na₂O 0.65%，ZnO 15.00%，B₂O₃ 1.96%，BaO0.07%，烧失量1.15%。

4.一种黑色喷墨陶瓷砖，其特征在于，所述黑色喷墨陶瓷砖包括如权利要求1-2任一项所述的全抛釉。