[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造装置和制造方法

权利要求书

1.一种成膜装置，是用于隔着掩模在基板上对成膜材料进行成膜的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置包括：

真空容器；

基板支承部件，设置在所述真空容器内，用于支承基板；

掩模支承部件，设置在所述真空容器内，用于支承掩模；

磁悬浮载置台机构，设置在所述真空容器内，能够调整与所述基板支承部件的支承面平行的第1方向、与第1方向交叉且与所述基板支承部件的支承面平行的第2方向、和以与所述第1方向以及所述第2方向这两者交叉的第3方向为中心的旋转方向上的所述基板支承部件的位置；以及

成膜源，设置在所述真空容器内，用于收纳成膜材料，并将所述成膜材料粒子化而放出。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮载置台机构能够调整所述第3方向、以所述第1方向为中心的旋转方向、和以所述第2方向为中心的旋转方向上的所述基板支承部件的位置。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮载置台机构包括：第1板部，位置相对于所述真空容器固定，与所述第1方向以及所述第2方向平行地设置；第2板部，能够相对于所述第1板部相对移动；以及磁悬浮单元，用于使所述第2板部相对于所述第1板部磁悬浮和移动，

所述基板支承部件设置于所述第2板部。

4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮单元包括能够相对于所述第1板部驱动所述第2板部的磁悬浮线性马达。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮线性马达包括：第1磁悬浮线性马达，能够沿所述第1方向驱动所述第2板部；第2磁悬浮线性马达，能够沿所述第2方向驱动所述第2板部；以及第3磁悬浮线性马达，能够沿所述第3方向驱动所述第2板部。

6.根据权利要求4或5所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮线性马达包括设置于所述第1板部及所述第2板部中的一方的固定件和设置于另一方的可动件，

所述固定件包括用于驱动所述可动件的磁场产生部件，

所述可动件包括磁性体。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮单元还包括用于测量所述第2板部的位置的位置测量部件。

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，

所述位置测量部件包括相对于所述第1板部固定的激光干涉仪、和与所述激光干涉仪相向地设置于所述第2板部的反射部。

9.根据权利要求7或8所述的成膜装置，其特征在于，

所述位置测量部件包括：第1位置测量部，用于测量所述第1方向上的所述第2板部的位置；第2位置测量部，用于测量所述第2方向上的所述第2板部的位置；以及第3位置测量部，用于测量所述第3方向上的所述第2板部的位置。

10.根据权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，

所述第1位置测量部包括被设置成在所述第1方向上照射测量光束的第1激光干涉仪、和与所述第1激光干涉仪相向地设置于所述第2板部的第1反射部，

所述第2位置测量部包括被设置成在所述第2方向上照射测量光束的第2激光干涉仪、和与所述第2激光干涉仪相向地设置于所述第2板部的第2反射部，

所述第3位置测量部包括被设置成在所述第3方向上照射测量光束的多个第3激光干涉仪、和与所述第3激光干涉仪相向地设置于所述第2板部的多个第3反射部，

所述第1激光干涉仪或所述第2激光干涉仪中的至少一方是多个。

11.根据权利要求3至10中任一项所述的成膜装置，其特征在于，

所述磁悬浮单元还包括用于补偿施加于所述第2板部的重力的自重补偿部件。