[发明专利]成膜装置以及电子器件的制造装置

权利要求书

1.一种成膜装置，是具有真空容器的成膜装置，其特征在于，

所述真空容器具备多个真空容器部和设置于所述多个真空容器部之间的可伸缩构件。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述真空容器具备：第1真空容器部，形成第1内部空间；第2真空容器部，形成与所述第1内部空间连通的第2内部空间；以及第1可伸缩构件，设置于所述第1真空容器部与所述第2真空容器部之间。

3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述第1可伸缩构件是波纹管。

4.根据权利要求2或3所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具备：

基板保持部件，对基板进行保持；以及

成膜源，用于收纳成膜材料，并将所述成膜材料粒子化而放出，

所述基板保持部件设置于所述第1真空容器部，所述成膜源设置于所述第2真空容器部。

5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

在所述第1真空容器部设置有用于调整所述基板保持部件的位置的对准载置台机构。

6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，

所述真空容器具备连结所述对准载置台机构的基准板部、和设置于所述基准板部与所述第1真空容器部之间的第2可伸缩构件。

7.根据权利要求5或6所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具备减振单元，该减振单元抑制振动向所述对准载置台机构传递。

8.根据权利要求7所述的成膜装置，其特征在于，

所述真空容器具备连结所述对准载置台机构的基准板部，所述减振单元设置在所述基准板部与成膜装置的设置台之间。

9.根据权利要求7或8所述的成膜装置，其特征在于，

所述减振单元在比所述第1真空容器部的底面高的位置支承所述第1真空容器部。

10.根据权利要求9所述的成膜装置，其特征在于，

所述减振单元在与所述第1真空容器部的重心的高度相同的高度的位置支承所述第1真空容器部。

11.一种成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具备：

真空容器；

基板保持部件，设置在所述真空容器内，用于保持基板；

对准载置台机构，设置在所述真空容器内，用于调整所述基板保持部件的位置；以及

减振单元，用于减少振动向所述对准载置台机构传递。

12.根据权利要求11所述的成膜装置，其特征在于，

所述真空容器具备连结所述对准载置台机构的基准板部，所述减振单元设置在所述基准板部与成膜装置的设置台之间。

13.根据权利要求12所述的成膜装置，其特征在于，

所述减振单元在比所述真空容器的底面高的位置支承所述真空容器。

14.根据权利要求13所述的成膜装置，其特征在于，

所述减振单元被设置成，在与所述真空容器的重心的高度相同的高度的位置支承所述真空容器。

15.一种电子器件的制造装置，其特征在于，

该电子器件的制造装置具备：

权利要求1～14中任一项所述的成膜装置；

用于收纳掩模的掩模储存装置；以及

用于搬送基板或掩模的搬送装置。